无掩模高精度激光直写
特点：无掩模光刻
型号：德国海德堡DWL66+
样品：2至8英寸，最大9英寸方形版，碎片15mm*15mm以上；
分辨率最高精度：0.3μm；
套刻精度：±0.5μm；
激光光源：405nm，功率300mW
0.6μm和0.3μm两种写头
曝光速度分别为13mm2/min和3mm2/min；
特色应用
具备灰阶三维结构光刻功能
主要用于：光刻掩模板制备，三维凸板制备
利用强度可变的激光束对基底表面的光刻胶进行曝光，显影得到所需要的任意图形。
特色应用：灰度掩模版+高精度光刻版
显影后图形
三维光刻图形
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