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RSS订阅原创 光学镀膜解决方案
光学镀膜光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。这些涂层可以显着改变光学元件的达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。光学涂层可以直接应用于光学元件的表面、以调整其反射率等。除此外可以利用材料的特性与多个膜层的配合作用可以达到很多特殊效果。常见镀膜种类包含增透膜，宽带增透膜，介质高反膜，金属反射膜，金属加强膜，金属导电膜，透明导电膜，前截止膜，后截止膜，偏振膜，增透+防水膜，高反+防水膜等等。根据产品需求可进行膜层选择。常见选用的镀膜材料一般是氟化镁、二氧化
2022-07-06 16:58:07
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原创 低场核磁在研发过程中的应用
测试技术使用一台磁共振设备（低温冻融核磁共振纳米孔径分析仪）即可完成水相态、润湿性、孔径分布、 比表面积以及孔容率、空隙率测试。每个样品仅需取样一次，即可完成所有测试案例-水相态分布测试理论基础：通过核磁共振T2谱，可以得到不同弛豫时间的水峰，弛豫时间越长，水分 子受到的束缚越小；弛豫时间越短，对应的水分子受到的束缚越强。分别对相同粒径的实 心和有孔颗粒进行核磁共振T2谱测试，通过对比得到水相态分布特征。实验样品：4份直径5um纳米微球，其中3份 为有孔微球，一份为实心微球实验步骤： 1.称取等质量的烘干样
2022-06-07 09:43:13
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原创 纳米压痕划痕
纳米压痕划痕 纳米压痕是一种先进的微尺度力学测量技术。它是通过测量作用在压针上的载荷和压入样品表面的深度来获得材料的载荷-位移曲线。其压入深度一般控制在微/纳米尺度，因此要求测试仪器的位移传感器具有优于1nm的分辨率，所以称之为纳米压痕仪。是最简单的测试材料力学性质的方法之一。实验中随着实验载荷的不断增大，位移不断增加，当载荷达到最大值时，位移亦达到最大值即最大压痕深度hmx;随后卸载，位移最终回到一固定值，此时的深度叫残留压痕hr，也就是压头在样品上留下的永久塑型变形。它特别适用于测量薄膜、涂层等超薄层材
2022-06-02 16:15:45
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原创 祝贺芜湖米格半导体检测有限公司在芜湖高新技术产业开发区正式落地
热烈祝贺芜湖米格半导体检测有限公司在芜湖高新技术产业开发区正式落地！为促进区域经济发展，米格实验室（北京聚睿众邦科技有限公司）在芜湖高新技术产业开发区分公司“芜湖米格半导体检测有限公司”完成落地，投资建设“芜湖市第三代半导体一站式检测服务平台”检验项目，项目总投资1.3亿人民币。其中固定资产投资6000万元人民币，坐落于芜湖高新区科技产业园9栋，欢迎各位朋友莅临交流！米格实验室将在半导体与新材料垂直领域继续为企业和研究院所提供高质量的技术服务，助力科技研发、产品迭代升级。同时米格实验室SEMI认证团队将同时
2022-06-02 16:14:54
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原创 米格实验室助力医工结合
第一期中国医工结合创新发展论坛21世纪是科学技术迅猛发展的时代，特别是信息技术、无线通信技术、生物技术、材料技术的不断发展与创新，对医学的发展起到了极大的促进、引领与带动作用。医学与工程技术和工业的有机结合使医学发展从不可能走向可能。未来医学技术的发展和进步将始终伴随着医学与工程技术的不断结合，医学为工程技术的发展提供应用方向，而工程技术的发展决定了医学发展的高度与深度。北京肛肠学会和米格实验室于2021年1月23日成立了医工结合创新发展中心，成立中心的目的是促进多领域、交叉学科融合，并逐步实现科技成果落地
2022-06-02 16:14:11
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原创 米格实验室-深紫外发光光谱（PL）
深紫外发光光谱技术简介深紫外发光光谱是研究半导体材料物理性质的一种重要手段。通常所说的半导体发光是半导体中电子从高能态跃迁至低能态时，伴之以发射光子的辐射复合。我们利用深紫外激光器产生的激光或电子枪发出的电子束到达样品室并入射到样品表面，样品发出的荧光信号被收集进入单色仪，该信号经单色仪分光后由探测系统探测，计算机对探测信号进行采集并形成最终的深紫外发光光谱。我们能够提供测量的光谱类型及其应用范围光致发光（PL）：使用飞秒激光激发样品，波长：（1）177nm；（2）210nm-330nm可调；（
2021-12-16 15:45:24
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原创 TEM成像流程简介
01仪器结构及原理概述透射电子显微镜是以波长极短的电子束作为照明源，用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨率、高放大倍数的电子光学仪器。透射电子显微镜是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上（片状< 100 nm，颗粒< 2 um），电子与样品中的原子碰撞而改变方向，从而产生立体角散射。图片的明暗不同（黑白灰）与样品的原子序数、电子密度、厚度等相关。成像方式与光学显微镜相似，只是以电子代替光子，电磁透镜代替玻璃透镜，放大后的电子像在荧光屏上显示出来。02FEI Talos
2021-11-19 14:28:49
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原创 光刻技术-无掩模高精度激光直写
无掩模高精度激光直写特点：无掩模光刻型号：德国海德堡DWL66+样品：2至8英寸，最大9英寸方形版，碎片15mm*15mm以上；分辨率最高精度：0.3μm；套刻精度：±0.5μm；激光光源：405nm，功率300mW0.6μm和0.3μm两种写头曝光速度分别为13mm2/min和3mm2/min；特色应用具备灰阶三维结构光刻功能主要用于：光刻掩模板制备，三维凸板制备利用强度可变的激光束对基底表面的光刻胶进行曝光，显影得到所...
2021-11-19 14:28:13
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原创 FIB常见应用明细及原理分析
系统及原理双束聚焦离子束系统可以简单理解为单束聚焦离子束系统与普通SEM的耦合。单束聚焦离子束系统由离子源、离子光学柱、束描画系统、信号采集系统和样品台5部分构成。离子束镜筒的顶端是离子源，在离子源上加较强的电场来抽取出带正电荷的离子，这些离子通过静电透镜及偏转装置的聚焦和偏转来实现对样品的可控扫描。样品加工是通过将加速的离子轰击样品使其表面原子发生溅射来实现，同时产生的二次电子和二次离子被相应的探测器收集并用于成像。 常见的双束设备是电子束垂直安装，离子束与电子束成一定夹角安装，如图...
2021-11-19 14:27:25
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原创 8寸Single机台喷淋去胶加工服务
服务产品简介喷淋去胶：在完成上一步刻蚀或者光刻后，利用喷淋去胶设备，将去胶液喷淋到旋转的晶圆表面，从而达到对光刻胶有效的去除的工艺过程，整个工艺包括了工艺参数调试、装片、预浸泡、喷淋去胶液、去离子水冲洗、氮气吹干等过程，特别适合MEMS、红外光电等芯片工艺中用到PI、底部填充等环节中的去胶工艺，具有高选择性、去除效率高的优点，是目前传统浸泡去胶的一个有效补充，可以解决传统浸泡去胶不能解决的问题。设备介绍装片：8寸及以下固定：卡爪+静电吸附转速：20～5000rpm清洗：3路，1路DI
2021-09-06 13:16:22
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原创 电磁兼容（EMC）
电磁兼容电磁兼容性（EMC）是指设备或系统在其电磁环境中符合要求运行并不对其环境中的任何设备产生无法忍受的电磁干扰的能力，服务范围主要涉及信息技术设备、家用电器、医疗器械、工业控制器、轨道交通、军用设备、环境影响测评等业务领域。我们能提供什么服务？电磁兼容（EMC）测试1．军用设备及分系统EMC检测2．车辆电子和机载EMC检测3．信息技术设备EMC检测4．医疗器械EMC检测屏蔽效能检测提供屏蔽工程，及软、硬性屏蔽物料和产品的屏效检测EMC测试及与整改实验室
2021-09-04 10:54:27
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原创 AFM技术原理及相关测试模式
AFM原子力显微镜的原理AFM全称Atomic Force Microscope，此前STM由于原理的限制只能测导体和部分半导，AFM原子力显微镜出来后弥补了STM的不足。AFM是在STM的基础上发展起来的。STMSTM利用量子理论中的隧道效应，当样品与针尖的距离非常接近时在外加电场的作用下，电子会穿过两个电极之间的势垒流向另一电极。隧道电流强度对针尖与样品表面之间距非常敏感，距离越小隧道电流将增加，所以利用电子反馈线路控制隧道电流的恒定，并控制针尖在样品表面的扫描，则探针高低的变化就反映出了样
2021-09-02 13:30:20
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原创 米格实验室2021 FIB-SEM双束显微镜实战培训
FIB-SEM双束培训FIB-SEM双束系统已然成为科学研究和产品研发的一把利刃，但如何把这把利刃应用到极致，全面理解FIB-SEM的原理与技术，熟练掌握FIB-SEM的操作，提高FIB-SEM的加工效率以及TEM制样的质量，已经成为这个行业不可忽视的问题。 本次实战培训班的对象面向半导体、钢铁、高温合金、电池材料、二维材料、陶瓷及地质样品等的FIB+TEM制样用户，或者高校、科研单位及企业中的FIB工程师群体。 米格实验室多年的FIB制样技术广受到各个科研单位、企业的用户的认可，...
2021-03-19 10:20:47
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原创 X射线荧光光谱仪（XRF）
1.X射线荧光光谱仪（XRF）简介 利用初级X射线激发待测物质中的原子，使之产生荧光（次级X射线）而进行物质成分分析的仪器。按激发、色散和探测方法的不同，分为X射线光谱法（波长色散）和X射线能谱法（能量色散）。 X射线荧光光谱分析本质上是表面分析。因此，要确保样品表面不受污染。X射线荧光分析是表面分析法，分析深度只有1到几微米。2.XRF原理 初级X射线与原子发生碰撞时，驱逐出一个内层电子而出现一个空位，使整个原子处于激发态，核外电子...
2021-03-05 14:58:47
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空空如也
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