1.杂志半导体:在本征半导体当中掺入少量的杂质元素。(目的:提高载流子浓度)
a.N型半导体:掺入少量的 磷元素(最外层五个电子,需要四个用来形成共价键,剩余一个就成为了自由电子,自由电子是多子,空穴为少子)
b.P型半导体:掺入少量的 硼元素(最外层3个电子,需要四个用来形成共价键,剩余了一个空穴,空穴为多子,自由电子为少子)
注:1.半导体器件的特性假如和少子相关,则受温度影响较大(温度对本征激发有影响,加上少子基数较小,数量改变影响较大)多子基数较大,所以即便温度变化,本征激发加剧,也不过是影响个零头可以忽略不计。
2.掺杂提供多子的原子称为施主原子。
3.本征激发:由于热激发获得了足够的能量而摆脱了共价键的束缚,成为了自由电子,同时共价键当中留下了一个空位置(空穴)。
2.PN结:将P型半导体与N型半导体放在一起形成PN结
由于扩散运动接近的自由电子和空穴进行复合,复合以后,出现了空间电荷区(耗尽层),阻挡扩散运动的进行。
3.PN结的单向导电性:
P区接正极,N区接负极
死区电压:二极管外部施加正向电压,通过外电场削弱内电场,当超过阈值后电流随着电压迅速增大,这段外加电压(没有超过阈值)的值就是死区电压。施加反向电压会增加势垒。限流电阻保护二极管。
P区接负极,N区接正极(外电场与内电场一致)
会出现漂移电流(受少子的漂移运动影响(温度影响))
4.PN结的电流方程:
(反向保和电流)
Ut和温度有关,常温下约为26mv,锗管和硅管的导通电流分别为0.2-0.3v 0.6-0.7v所以图像就是指数关系。