Compact 21系统将促进III-V族材料和器件的发展
法国MBE公司Riber宣布在美国出售Compact 21研究系统。
该美国客户已订购该系统,用于微电子和光子学的III-V族半导体材料和器件的开发。
里伯表示,Compact 21系统将使已经配备了里伯机器的实验室能够通过在现有生产线中添加一个新的超高真空(UHV)室来增强其多功能性,并使其工艺多样化或与其他研究小组共享设备。
Compact 21机器将结合Riber开发的新一代蒸发器,以及包括EZ CURVE现场控制设备和Crystal XE过程控制软件在内的一系列仪器,为用户提供更高的安全性、可靠性和易用性。
这一新订单将于2024年交付。
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