小鸟起鸣-CSDN博客

原创快捷键实现MAC或者WINDOWS下快速切换显示器输入源

显示器型号是Dell 22 Monitor, 屏幕下方的四个按键分别为快捷键1、快捷键2、菜单、关闭电源。打开屏幕菜单-个性设置-快捷键设置-快捷键1设置为输入VGA，快捷键2设置为输入HDMI。直接按快捷键就能实现输入源切换。Window下的显示器输入源切换用controlmymonitor, Mac用betterdisplay，自己跑代码或者触发角。触发角这个挺方便的但我这边用起来还是有点问题。

2024-07-22 17:16:59 585

原创 Windows远程控制Mac

参考下篇教程VNC。

2024-03-26 17:21:22 232

原创 Silvaco Win10 SFLM跳转失败问题解决

在安装Silvaco时发现没有SFLM Admin，且浏览器 http://127.0.0.1:3162 页面载入出错；同时间、同教程同事win7电脑可以正常安装。浏览器进入 http://127.0.0.1:3162/Admin/Ssmid ，这个网址可以顺利进入。

2022-07-05 19:03:54 3019 2

原创 Silvaco基础知识和GT栅帽高度变化对Cgs影响仿真

1 Silvaco学习了解渠道Silvaco官网 silvaco.comUser’s manual，在软件安装包中基本会有。Silvaco软件下的例子书籍《半导体工艺和器件仿真软件Silvaco实例教程》2 栅帽高度对Cgs影响仿真2.1 仿真流程1）网格设置2）区域、电极、接触金属设置3）计算模型和方法4）求解5）结果展示6）高度改变的循环2.2 器件结构 2.3 代码#change GT size and CF trendgo internalset leng

2022-05-21 14:46:55 801

原创 CSDN markdown 图片大小等比设置

<div align="center"><img src="图片地址" width=“缩放比例” height=“缩放比例”>图片的话，我正常上传，markdown编辑器下面会出现相应的网址，将其拷贝即可。

2022-04-20 16:13:02 746

原创刻蚀相关文献总结

0 前言刻蚀是芯片制造中除光刻外最重要的步骤，主要目的是将光刻胶上的形状准确的留在芯片表面。这是一个庞大的体系，本次总结的论文阅读量较低导致涉及到的方面比较少，还需以后更多的内容补充，但作为一个节点输出也是必要的。1 刻蚀基本知识刻蚀主要分为湿法和干法两大类。两者特点为：精度刻蚀方向步骤湿法刻蚀低各项同性表面处理、光阻去除干法刻蚀高各项异性SiN、栅刻蚀、SiC刻蚀评价刻蚀质量主要参数：速率、均匀性、准确性、选择比、刻蚀角度等。速率：顾名思义，刻蚀

2022-04-20 15:49:20 2569

原创 Silvaco关于-set xxx.set和memory allocation error解决

1. -set error拷贝示例并重新命名后，在-set xxx.set语句发生错误。错误为：Unable to load set file: xxx.setThe file cannot be accessed.如错误所示，未找到set文件，解决方法是：在tonyplot画图后，设置好相应的显示参数，点击File-Save Set Files…，将文件命名为xxx.set，一定要在名称中加上后缀.set，Silvaco才能识别，保存在工作路径下。在设置好后，运行代码，会弹出warning

2022-04-09 10:50:41 4443

原创 AlGaN/GaN HEMT 富Si的双层SiN钝化层

AlGaN/GaN HEMT 富Si的双层SiN钝化层总结1 双层SiN钝化层结构以下是几类钝化层结构实验设计对比设置@Huang Tongde1Chip1: 50-nm in-situ SiNxChip2: 59-nm ex-situ SiNx by PECVD with NH3 plasma pre-treatment at 300CChip3: bilayer LPCVD SiNx, Si rich(10nm, DSC:NH3 flow 220:30,820C), SiNx(DSC:NH

2022-02-27 16:00:30 1996

原创三五族异质结的自发极化、压电极化及2DEG

三五族异质结的自发极化、压电极化及2DEG在谈到氮化物异质结基本原理时总是会提到这几个概念，看似理解又不是很清晰，最终还是忍不住去仔细了解了一下概念。自发极化纤锌矿结构在了解自发极化前，我们先来看一下原子结构。三族氮化物GaN、AlN和InN具有稳定的纤锌矿和亚稳的闪锌矿两种结构，两者电学性质差异很大。闪锌矿结构不具备自发极化性质（此点稍后阐明），因此普遍采用纤锌矿结构。纤锌矿结构中，一个原子与其最近四个原子形成的键长不同，沿[0001]方向的键长大于其余三个键长。闪锌矿结构中，各化学键

2021-06-01 10:20:45 10800 6

原创光刻

PH——Alignment Mark涂胶脱水烘焙晶圆表面干燥，从亲水变成厌水。脱水烘焙属于物理层面提高光刻胶粘合能力的方法，有三种方式：加热、环境湿度控制、氮气净化过的干燥器。涂底胶化学层面。旋转式、蒸气式。光刻胶3.1涂抹方式：静态+旋转、动态喷洒、移动手臂3.2光刻胶组成：聚合物、溶剂、添加物、光敏剂软烘焙4.1 目的：蒸发光刻胶中的一部分溶剂。4.2 硬烘焙&软烘焙：软烘焙让光刻胶和晶圆粘结更好，太多的溶剂会影响光刻效果。不使用硬烘焙是过度烘焙使得光刻胶中聚合物产生聚合

2021-04-01 14:19:54 550