纳米量级晶圆表面微观缺陷检测技术调研

背景：

通常亚微米量级（0.1-1um），纳米量级（1-100nm），现在普遍实践认为仅仅用相机和高倍远心镜头 再用亚像素算法 能在亚微米量级别，但纳米量级别这一方案就不行，纳米量级主要是光学光路光干涉。

晶圆表面形状偏差分为：宏观几何误差，中间几何误差，微观几何误差，分别用表面形状误差，表面波纹度，表面粗度来描述。

微观容貌检测主要技术：微分剪切干涩显微技术，五步相移算法

原理：用光学微分剪切干涩显微技术来测量表面的粗糙度，利用晶体的各项异性，通过晶体的光产生一定横向的剪切量，分开的两束振动相互垂直的偏振光通过显微物镜投射样品表面并被反射，反射光由于被样品形貌调制而被携带有表面形貌信息，这部分反射光按照原来的路径在此透过反射透镜并通过平行晶体产生一个横向剪切量最终通过移相器产生一个干涉条纹被CCD接收采集到计算机中预处理五步相移算法等工作，最终复原样品的表面信息在计算机上。

参考文章：1、晶圆微观形貌检测系统的实现和控制