光刻理论-Abbe模型与Hopkins模型

目前在做计算光刻的工作，之前在入门的时候，看到很多论文中都提到了Abbe理论和Hopkins理论这两种模型，但是具体讲解的都不是很细，而傅里叶光学的书上，介绍Abbe理论的时候，当光照射一个物体的时候，其衍射光会在透镜后焦面形成夫琅和费衍射图样，光再从后焦面传播到像面。我在学习了一段时间后，将自己的一些想法记录和分享出来，如果有大佬看到了此文章，能指点小弟一下，十分感谢。
其中，在Abbe理论中，光从物体发生衍射之后，都会经过一个透镜，这个透镜的作用就是让这个衍射过程可以当作夫琅和费衍射。那么问题来了，我们去计算这个过程具体应该怎么思考呢？下面是我对整个过程的一个理解：

一步一步来分析，首先我们假设光源是理想的，光源函数等于$$E_i$$，当光照射到掩膜板上，此时假设掩模版足够薄，其是满足基尔霍夫近似条件(当然这里是非常理想的一种假设了，不过其实对于整套理论，用这个假设足够了)，所以此时掩模版的出射光场是$$E_{near-field}=E_{i}T(x,y)$$,其中$T(x,y)$是掩模版的图案。回看上文，此时从出射光场到入瞳这个过程就是满足夫琅和费衍射，当然也可以单从这个图上面，我是这样理解的，后面的透镜组也是一个理想的，那么其入瞳应该在无穷远处，故满足夫琅和费衍射的。故此时我们可以把入瞳处的光场分布写出来:$$E_{en-pupil}(f_x,f_y)=C_1\int \int E_{near-field}{e}^{-2i\pi (f_{x}x+f_{y}y)}dxdy$$,其中$C_1$就是一个常系数，那么接下来就是考虑透镜组了，那么透镜组必须要考虑进去的肯定是光瞳函数，其决定了哪些级别的衍射光能透过，哪些光不能透过。(换句话来说，整个过程就是线性系统，其中光瞳函数是相当于一个低通滤波器，滤波器的设置肯定是十分重要的)，光瞳函数的表达式:$$P(f_x,f_y)=\{\begin{array}{rcl}1& & if\sqrt{f_x^2+f_y^2}<NA/\lambda \\ 0& & otherwise\end{array}$$
,其中NA是投影透镜的数值孔径，那么此时出瞳面的出射光场应该是$$E_{ex-pupil}(f_x,f_y)=E_{en-pupil}P(f_x,f_y)$$从出瞳面到像面这个过程可以参考从掩模版的出射光场到入瞳这个过程，是同理的。故我们可以把像面的光场分布写出来:$$E_{image}(x,y)=C_2\int \int E_{en-pupil}(f_x,f_y)P(f_x,f_y)e^{-2i\pi (f_{x}x+f_{y}y)}d{f}_{x}d{f}_y$$这个就是最基本的一个过程.相信大家看到这里，会觉得整个过程还是简单，而且会觉得这个推导比很多光刻论文中简单太多了，那是因为整个过程的推导做了太多简单的假设了。故接下来我们逐步把一些部分考虑的不是那么理想，加入到我们现在整个思路中去。
在上述的过程中，我们始终考虑光源是一个无限大的面光源，无论是哪个位置的物体都是乘以同一个光源，这种假设是不太现实，因为在现实中光源肯定是有一定体积的。故现实中都是部分相干光照明，特别是存在离轴照明，这个对于成像而言影响是巨大的。故在这个时候将光源考虑得更加具体，定义有效光源为$$J(f_x^{\prime },f_y^{\prime })$$,在此时光源相对于掩模版是角谱面，故对光源到掩模版上的光场分布$$E_i(x,y)=\int \int J(f_x^{\prime },f_y^{\prime })e^{2i\pi (f_x^{\prime }x+f_y^{\prime }y)}d{f}_x^{\prime }d{f}_y^{\prime }$$,将这个表达式带入上面像面的振幅分布，可得$$E_{image}(x,y)=C_2\int \int J(f_x^{\prime },f_y^{\prime })\int \int E_{en-pupil}^{\prime }(f_x,f_y)P(f_x,f_y)e^{-2i\pi (f_{x}x+f_{y}y)}d{f}_{x}d{f}_{y}d{f}_x^{\prime }d{f}_y^{\prime }$$其中，这个$E_{en-pupil}^{\prime }(f_x,f_y)$得写出来一下，$$E_{en-pupil}^{\prime }(f_x,f_y)=C_1\int \int E_{near-field}{e}^{-2i\pi (f_{x}x+f_{y}y)}{e}^{2i\pi ((f_x^{\prime }x+f_y^{\prime }y)}dxdy$$，我再多写一步，$$E_{en-pupil}^{\prime }(f_x,f_y)=C_1\int \int E_{near-field}{e}^{-2i\pi ((f_x-f_x^{\prime })x+(f_y-f_y^{\prime })y)}dxdy$$那么现在就十分清晰了，从这个式子，我们就可以看出，如果在计算的时候将离轴照明考虑进来，可以看出其在频谱面带来位移，故可以考虑整理这个式子，会不会给我们计算带来加速呢？下面就介绍Hopkins模型：
我们首先定义一个相干因子参数$$\sigma =\frac{nsin({\theta }_0)}{NA}$$其中${\theta }_0$是光源和掩模版之间的最大夹角，我们可以采用一个近似，将相干因子近似为光源直径与掩模版直径之比。此时，将光源描述的更符号实际，故离轴照明点会带来频谱面上的空间位移，其能通过透镜的光就和上面仅仅只考虑面光源的时候不同了，故会影响分辨率。写出此时点光源(离轴照明)在像面的电场分布：$$E_{image}=F^{-1}(E_{en-pupil}(f_x-f_x^{\prime },f_y-f_y^{\prime })P(f_x,f_y))$$接下来我们将这个公式具体写出来:$$E_{image}(x,y)=\int \int \int \int E_{en-pupil}(f_x-f_x^{\prime },f_y-f_y^{\prime })P(f_x,f_y)e^{2\pi i{f}_{x}x+2\pi i{f}_{y}y}d{f}_{x}d{f}_{y}d{f}_x^{\prime }d{f}_y^{\prime }$$,那么接下来我们进行一次换元可得到$$E_{image}(x,y)=\int \int \int \int E_{en-pupil}(f_x,f_y)P(f_x+f_x^{\prime },f_y+f_y^{\prime })e^{2\pi i(f_x+f_x^{\prime })x+2\pi i(f_y+f_y^{\prime })y}d{f}_{x}d{f}_{y}d{f}_x^{\prime }d{f}_y^{\prime }$$
将$E_{en-pupil}$带入得到：$$E_{image}(x,y)=\int \int \int \int \int \int E_{near-field}(x,y)e^{-2i\pi (f_{x}x+f_{y}y)}dxdyP(f_x+f_x^{\prime },f_y+f_y^{\prime })e^{2\pi i(f_x+f_x^{\prime })x+2\pi i(f_y+f_y^{\prime })y}d{f}_{x}d{f}_{y}d{f}_x^{\prime }d{f}_y^{\prime }$$,再将$E_{near-field}(x,y)$带入，$$E_{image}(x,y,f_x,f_y)=\int \int \int \int J(f_x^{\prime },f_y^{\prime })T(f_x,f_y)P(f_x+f_x^{\prime },f_y+f_y^{\prime })e^{2\pi i(f_x+f_x^{\prime })x+2\pi i(f_y+f_y^{\prime })y}d{f}_{x}d{f}_{y}d{f}_x^{\prime }d{f}_y^{\prime }$$
故此时的可以得到点光源的像面强度：$$I(x,y)=\int \int \int \int \int \int J(f_x^{\prime },f_y^{\prime })J(f_x^{\prime \prime },f_y^{\prime \prime })T(f_x,f_y)T^{\ast }(f_x,f_y)P(f_x+f_x^{\prime },f_y+f_y^{\prime })P(f_x+f_x^{\prime \prime },f_y+f_y^{\prime \prime })e^{2\pi i(f_x^{\prime }-f_x^{\prime \prime })x+2\pi i(f_y^{\prime }-f_y^{\prime \prime })y}d{f}_{x}d{f}_{y}d{f}_x^{\prime }d{f}_y^{\prime }d{f}_x^{\prime \prime }d{f}_y^{\prime \prime }$$
在这个时候你会发现这个公式和你在很多论文中看到的Hopkins成像模型是一样的，这样咱们就推导出来了。我们将其中的$$TCC=\int \int \int \int J(f_x^{\prime },f_y^{\prime })J(f_x^{\prime \prime },f_y^{\prime \prime })P(f_x+f_x^{\prime },f_y+f_y^{\prime })P(f_x+f_x^{\prime \prime },f_y+f_y^{\prime \prime })e^{2\pi i(f_x^{\prime }-f_x^{\prime \prime })x+2\pi i(f_y^{\prime }-f_y^{\prime \prime })y}d{f}_x^{\prime }d{f}_y^{\prime }d{f}_x^{\prime \prime }d{f}_y^{\prime \prime }$$这个是整个光学系统的作用，与掩模版的形状是没有关系的，这就是为什么用Hopkins成像模型，其计算速度要快于Abbe成像模型，因为Abbe模型，每一次都要整体算，很费时间。整体思路大概就如上，具体的公式推导可能有书写错误，若有问题可以评论!