MOSFET的寄生电容

MOSFET的寄生电容

MOSFET在结构上存在下图所示的寄生电容。下图为N-ch MOSFET的例子,与P-ch的思路相同。这里谈的处理大功率的功率MOSFET,需要理解为限制使用频率和开关速度的参数。

MOSFET的栅极、漏极及源极通过栅极氧化膜被绝缘。另外,漏极-源极间借助衬底(Body/PCB板)形成PN结,存在寄生(Body)二极管。

下图的栅极-源极间电容Cgs及栅极-漏极间电容Cgd取决于栅极氧化膜的静电电容。另外,漏极-源极间电容Cds是寄生二极管的结电容。

一般MOSFET的技术规格中与这些寄生电容相关的参数为表中的Ciss、Coss、Crss三项。在按静态特性与动态特性分别记述的技术规格中,是被分到动态特性中的。这些是影响开关特性的重要参数。

Ciss是输入电容,是栅极-源极间电容Cgs与栅极-漏极间电容Cgd相加的电容,是从输入端看的MOSFET整体的电容。要使MOSFET工作,需要驱动(充电)该电容,因此是探讨输入元件的驱动能力或损耗时的参数。Qg是驱动(充电)Ciss所需的电荷量。

Coss是输出电容,是漏极-源极间电容Cds与栅极-漏极间电容Cgs相加的电容,是输出端的整体电容。当Coss较大时,即使关断栅极,输出端也会有Coss引起的电流,直到输出完全关断是需要时间的。

Crss是栅极-漏极间电容Cgd本身,被称为“反馈电容”或“反向传输电容”。当Crss较大时,即使栅极导通,漏极电流上升慢,关断时下降变慢。也就是说,这是对开关速度影响较大的参数。Qgd是驱动(充电)Crss所需的电荷量。

另外,这些电容对漏极-源极间电压VDS具有依赖性。如图所示,当VDS增加时,电容值具有变小倾向。

MOSFET寄生电容的温度特性

Ciss、Coss、Crss对于温度影响几乎没有变化。因此,可以说开关特性几乎不受温度变化的影响。下面是实测例。

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### 回答1: MOS寄生电容是指在金属氧化物半导体场效应管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,简称MOSFET)的结构中,存在于不同的电极(栅极、源极和漏极)之间的电容。这些电容产生的原因是由于MOS管的金属氧化物层和半导体层之间的结构和电荷分布差异导致的。 在MOSFET中,栅极与通道之间的电容称为栅极-通道电容;栅极与漏极之间的电容称为栅极-漏极电容;栅极与源极之间的电容称为栅极-源极电容。这些寄生电容的存在会影响MOSFET的性能和工作特性。 寄生电容MOSFET的影响主要表现在两个方面。首先,寄生电容会导致MOSFET在高频应用中的功耗增加,并且限制了其最高操作频率。其次,寄生电容的存在会引起信号延迟和损耗,使得电路的工作速度下降。 因此,在电路设计中需要充分考虑和优化MOSFET寄生电容。常见的寄生电容减小的方法包括采用特殊的工艺和结构设计、增加电极之间的间距、使用高介电常数的材料等。 总之,MOS寄生电容是指在MOSFET结构中存在的电容,它会对MOSFET的性能和工作特性产生影响,需要在设计中予以考虑和优化。 ### 回答2: MOS寄生电容是指在MOS场效应管结构中存在的一个非理想电容。 MOS管是一种常用的半导体器件,其结构包括栅极、漏极和源极。当栅极施加电压时,可以控制漏源通道的导电性能。然而,在实际应用中,MOS管的结构和制造过程都会导致一些非理想的效应出现,其中之一就是寄生电容寄生电容是由于MOS管的结构特点和材料特性引起的,并且通常是不可避免的。MOS寄生电容主要有三种,即栅极和漏极之间的扩散电容(Cgd)、栅极和源极之间的扩散电容(Cgs)以及漏极和源极之间的扩散电容(Cds)。 这些寄生电容会影响MOS管的性能。首先,它们会形成一组电容,导致电流的泄漏和延迟,从而降低开关速度。其次,在高频应用中,寄生电容会导致信号的损失和失真,影响电路性能。此外,由于寄生电容会在MOS管的结构中存储和释放电荷,还会对功率消耗产生影响。 为了降低寄生电容的影响,可以采取一些措施,如采用优化的结构设计、使用低介电常数的材料、增加栅极剂量等。此外,还可以发展新的器件结构,如FinFET和级联MOSFET等,以改善MOS管的性能,并减少寄生电容的影响。 综上所述,MOS寄生电容是指在MOS场效应管中存在的一种非理想电容,由于其特性和结构导致。寄生电容会对MOS管的性能产生负面影响,因此在设计和制造过程中需要采取相应措施来减少其影响。 ### 回答3: MOS寄生电容是指在金属氧化物半导体场效应管(MOSFET)中存在的一种电容现象。MOS管是一种常用的半导体器件,由金属电极、氧化层和半导体层组成。在MOS管中,当施加电压使得导电层形成时,金属电极和半导体之间会形成两个电容:栅极与漏极之间的栅漏电容和栅极与源极之间的栅源电容。 然而,除了这两个主要的电容之外,还会存在一些附加的电容,称为寄生电容。这些寄生电容是由于MOS管的结构和工艺等因素引起的。常见的寄生电容包括栅极与基底之间的栅基电容、漏极与基底之间的漏基电容以及栅极与导电层之间的栅导电层电容。 寄生电容会对MOS管的性能和工作条件产生影响。它们会影响MOSFET的开关速度、截止频率、功耗等参数。当频率较高时,寄生电容会产生较大的电流和功耗,从而导致效率下降。因此,在设计MOS管电路时,需要考虑和抑制寄生电容的影响,以优化性能和稳定性。常用的方法包括采用特殊的结构设计、优化工艺和使用补偿电路等。 综上所述,MOS寄生电容指的是MOSFET中除了主要电容之外的额外电容,这些电容会对MOS管的性能产生影响,需要在设计和应用中予以重视和抑制。

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