对SP光刻机表示谨慎

　　最近突然爆出一个新闻，说中国科研机构在光刻机方面，做出突破性的进展。具体来说，通过表面等离子（电浆），使用390nm光波实现了22nm的线宽分辨率。一时铺天盖地的吹嘘。作为一个具有科学实证精神的程序员，吾对此表示谨慎。什么意思？一方面有所怀疑，另一方面即使是真的也表示谨慎乐观。

 

　　首先大家要记住，太阳底下没有新鲜事。比如说，吾在工作中经常说，遇到一个问题，不要以为汝撞了大运，汝是第一个碰到的。在汝之前，已经有千千万万的人遇到过了。然后呢？赶紧网上搜索。

　　所以呢，说是通过新技术实现了光刻，吾以为并不可能。汝能想到，别人也能想到；汝能突破，只要有钱有人都能突破。

 

　　再说，实验室技术与量产，完全之间有很大的距离（当然，这个比想法与实现的距离要小多了）。比如说，大家天天看到电池技术有突破的新闻，可是大家看到新技术的电池了吗？

　　量产与应用，又是两回事。比如说，汝现在经营一个光刻企业。汝敢抛弃现在的成熟技术，换用新出现的未经过长时间应用的技术吗？搞砸了怎么办？

 

　　那么怎么办呢？其实，科研指望企业都是开玩笑，统统要国家支持。现在国内的决策上，好象有点过于指望民企？比如中兴事件。

 

　　刚刚看到说明，这个确实是光刻，完全不可能用于IC的制作。差异，简单的比较，就象用画笔画画，与照相曝光的差异。