利用LTCC技术将集总或半集总元器件在一个非常小封装空间中实现,在器件逐渐向小型化发展的过程中主要是利用LTCC三维封装的优点对无源器件进行多层内埋式的设计。
产品小型化的过程就是器件封装尺寸不断集成压缩的过程,在大规模射频集成电路模块中,有源器件采用微波单片集成电路,达到了最小的封装空间,而LTCC无源器件如电感、电容、双工器、滤波器等功能模块可以内埋在基板三维空间,有效利用基板从而使整个功能模块组件体积减小。因此对LTCC无源器件设计和应用将是在极大程度上促进小型化发展。
本篇将介绍基于多层陶瓷技术来设计多层陶瓷电容的方法,MLCC目前已广泛应用在各个领域,包括手机、安防、汽车电子、服务器等芯片领域。
电容是在无源元件中除电感外另一个非常重要的元件,在目前LTCC内埋电容元件设计上,主要有金属-绝缘体-金属(MIM ,Mental-Insulator-Mental)和垂直交叉电容(VIC, Vertically-Interdigitated-Capacitor)两种结构,如下图所示。利用LTCC工艺多层化、立体化的优点实现VIC结构的多层交叉结构电容。VIC电容的结构如下右图所示,它实际上就是利用银浆电极的上平面和下平面做不同分电容的电极,这些分电容并联来实现一个大电容的。一般来说n个电容平板其实是形成了n-1个电容的并联。
使用软件对电容进行仿真时,电容值的散射参数的表达式为:
在对VIC电容进行等效电路分析时,采用了单PI型等效电路结构,如图。
其中L为等效串联电感,作为电容端口的寄生电感,R为寄生在器件内部的损耗电阻,C1、C2表示平行金属板对地寄生电容。内埋电容由于电容和寄生电感串联形式在一定频率下形成谐振腔,限定电容性的工作频率范围,其中L和Ceff构成该电路模型中的串联谐振频率。
仿真按如下结构进行建模仿真, 不采用通孔来实现电容极板的连接,而是采取电容极板错位的方法,在电容加工过程中裁切后将极板露在元件的两侧面,通过封端工艺实现电容极板的互连。
电容极板长1.5mm,宽0.9mm,使用不同介电常数分别为3.8,7.8,14相同结构的电容进行仿真,仿真结果如图所示。
由图可以看出电容的电容量随着频率的增大而增大;电容的第一自谐振点的频率随着介电常数的增大而减小。然后分别提出电容在1GHz、2GHz、3GHz、4GHz频率下电容与介电常数的变化如图,可以看出在不同频率下电容量随相对介电常数呈正比例变化,当接近自谐振频率时出现偏差。
接下来对不同的极板面积和膜片厚度的电容电容量变化,在不同频率点下提取如图所示仿真结果。
由图可以看出随着极板面积的增大电容量呈线性增大。随着膜片厚度的增大电容的电容量呈线性减小。电容量基本满足下式: