What’s CVD?
化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition),制备薄膜的一种技术.
Advantages
- High grow rates
- can deposit materials which are hard to evaporate
- good reproducibility
- can grow epitaxial films
Disadvantages
- high temperatures
- complex process
- toxic and corrosive gasses
Process
- 反应气体(原料气体)到达基体表面
- 反应气体分子被基体表面吸附
- 在基体表面上产生化学反应,形成晶核
- 固体生成物在基体表面解吸和扩散,气态生成物从基体表面脱离移开
- 连续供给反应气体,涂层材料不断生长