武汉宇熠在2024年8月22号-23号特为您精心打造了一场专业的为期两天的『Ansys Zemax 成像设计』线上培训,带您深入探索这个充满无限可能的领域!它主要是针对序列成像设计,帮助学员们掌握优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换等知识点。
课程安排
DAY 1 | DAY 2 |
01.Ansvs Zemax OpticStudio 简介 02.数据库;镜头库,材料库 03.玻璃材料以及如何定义新材料 | 16.实例:扫描振镜 17.双高斯镜头的设计与优化 18.转换为非序列模式 |
04.像差简介以及OpticStudio 中的像差图表 05.优化 06.局部/全局/锤形优化/优化操作 07.优化实例:单透镜/双透镜 | 19.黑盒系统 20.Opticstudio中的优化工具 21.寻找最佳非球面/转换非球面类型 22.公差分析简介 |
午休:12:00 — 14:00 | |
08.热分析 09.二元面及衍射光学表面 10.鬼像及杂散光分析 | 23.制造误差和装配误差 24.公差评价标准 25.灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析 |
11.调制传递函数和成像质量评估 12.双高斯镜头的设计与优化 13.OpticStudio 中的坐标系统 14.坐标间断面及其使用技巧 15.序列模式中的棱镜模型 | 26.公差补偿器 27.公差操作数 28.实例:对单透镜/库克三片镜进行公差分析 29.公差报告 30.镜片/CAD制图 |
培训信息
课程主题 | Ansys Zemax 成像设计 |
主办方 | 武汉宇熠科技有限公司 |
培训讲师 | 宇熠资深光学工程师 |
开课时间 | 08月22日-23日(9:00-17:00) |
课程费用 | 1980元/人 |
培训地点 | 腾讯会议 |
注意事项
1、发票统一开“培训服务费”。
2、本次培训提供培训证书。
3、三人及以上组团报名可享受八折优惠。
4、如报名人数未达最低开课标准,本门课程将取消或延迟, 具体情况以开课前一周通知为准。
5、报名私聊。