线上培训 | Ansys Zemax 成像设计

武汉宇熠在2024年8月22号-23号特为您精心打造了一场专业的为期两天的『Ansys Zemax 成像设计』线上培训，带您深入探索这个充满无限可能的领域！它主要是针对序列成像设计，帮助学员们掌握优化技巧、公差分析技巧、热分析、像质评价、坐标变换等知识点。

课程安排

DAY 1	DAY 2
01.Ansvs Zemax OpticStudio 简介 02.数据库；镜头库，材料库 03.玻璃材料以及如何定义新材料	16.实例：扫描振镜 17.双高斯镜头的设计与优化 18.转换为非序列模式
04.像差简介以及OpticStudio 中的像差图表   05.优化 06.局部/全局/锤形优化/优化操作 07.优化实例:单透镜/双透镜	19.黑盒系统 20.Opticstudio中的优化工具 21.寻找最佳非球面/转换非球面类型 22.公差分析简介
午休：12:00 — 14:00
08.热分析 09.二元面及衍射光学表面 10.鬼像及杂散光分析	23.制造误差和装配误差 24.公差评价标准 25.灵敏度/反灵敏度/蒙特卡罗分析
11.调制传递函数和成像质量评估 12.双高斯镜头的设计与优化 13.OpticStudio 中的坐标系统 14.坐标间断面及其使用技巧 15.序列模式中的棱镜模型	26.公差补偿器 27.公差操作数 28.实例：对单透镜/库克三片镜进行公差分析 29.公差报告 30.镜片/CAD制图

培训信息

课程主题	Ansys Zemax 成像设计
主办方	武汉宇熠科技有限公司
培训讲师	宇熠资深光学工程师
开课时间	08月22日-23日(9:00-17:00)
课程费用	1980元/人
培训地点	腾讯会议

注意事项

1、发票统一开“培训服务费”。

2、本次培训提供培训证书。

3、三人及以上组团报名可享受八折优惠。

4、如报名人数未达最低开课标准，本门课程将取消或延迟， 具体情况以开课前一周通知为准。

5、报名私聊。