对于做半导体材料和光催化的同学来说,带隙是重要的参数,一般用紫外漫反射光谱来计算。所以从UV-vis DRS谱图得到半导体的禁带宽度,这个技能应该是必须要掌握的。方法有两种,切线法和Tauc plot法。如果粗略计算的话,可以采用切线法,但是相对来说,Tauc plot法更加准确,用的更多些。
切线法
基本原理是存在Eg =1240/λg 的数量关系,其中λg单位为nm,Eg单位为eV,认为半导体的带边波长(λg)决定于禁带宽度Eg。因此,可以通过求取λg来得到Eg。
具体操作:1. 一般通过UV-Vis DRS测试可以得到样品在不同波长下的吸收,打开数据导入origin,生成散点图;
2. 在Origin中,通过微分的方法找极值点:分析Analysis - 数学Mathematics - 微分Differentiate对紫外吸收光谱图求一次微分,并找到极值点,记录下来;
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