【转】65nm TSMC工艺库文件概要

路径1:/cas2/data1/library/library/tsmc65n/PDK_doc/TSMC_DOC_WM
路径2:/home/liucx19/liucx/my_library_files/TSMC_DOC_WM

文件及其内容介绍:
2D4GHz_VCO_Process_Vehicle_Design_Report_2007.pdf 报告,基本没用
Application_note_for_customized_cells.pdf讲定制元件版图的
APPNOTE_PCDEF_2005_1.pdf提取寄生参数
CRN65_CDF_Usage.pdf讲被调用元件底层各个节点含义以及相关设置
CRN65LP_v1d5a_pdkFSAChecklist.pdf表示支持的各种平台,对pdk中各种元件内容的汇总,包含RF元件
crtmom_rf_device_route_guidance_for_RF_application.pdf讲解怎样放置此类特别的电容来获取更好的射频性能rotative metal-oxide-metal (RTMOM) capacitor
DNA_Extraction_User_Guide_v1.0.pdf由于PDK越来越趋于复杂,比较两个PDK不同
LayoutDependentEffectSetupUsage.pdf版图依赖效应
N65_RTMOM_revision_083109.pdf RTMOM电容的工艺角变动情况
parasitic_3T_use_guide.pdf多端口器件使用手册,多端口意味着有很多物理位置影响某个器件的性能.
RF_LNA_TV_Report_v1d0.pdf射频低噪声放大器报告,没啥用
Statistical_Sim_AppNote_N65_final_20070926.pdf讲解不同工艺角下的失配情况,包括model library的设置以及蒙特卡洛分析
TCF_tutorial.pdf主要在讲TCF(TSMC Capacitor Finder),主要在关注MOM电容
TCF_User_Guide.pdf讲解TCF的用法,主要是为了节省设计时间来获取一个合适的设计用电容
TIF_tutorial.pdf对于指定面积,TIF用来搜索一个合适的电感
TIF_User_Guide.pdf讲解TIF的用法,主要是为了节省设计时间来获取一个合适的设计用电感
tsmc_PDK_usage_guide.pdf从环境变量设置讲到最终后版图仿真的各种细节

/PDK_doc/TSMC_DOC_WM/model/2.5V/
TN65CMSP007_1.5.pdf工艺库器件详解,有需要时可以翻
CRN65LP_LOD_WPE_Table.txt射频MOS的版图依赖效应参数
提供Spice仿真参数

/PDK_doc/TSMC_DOC_WM/model/3.3V/
CRN65LP_LOD_WPE_Table.txt射频MOS的版图依赖效应参数
提供Spice仿真参数

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对于TSMC 65纳米工艺的下载,首先需要确认您所需的工艺是用于哪种应用和设计工作。TSMC 65纳米工艺主要应用于嵌入式存储器、RF解决方案和高性能数字设计等领域。在下载工艺之前,您需要先注册TSMC官方网站的账户,并同意相关的协议和条款。 在官方网站上,您可以找到有关TSMC 65纳米工艺的详细信息和下载链接。通常,TSMC会要求您填写一些基本信息,并选择适合您项目需求的工艺版本。在确认您的选择后,您可以获得下载链接,并下载相应的工艺文件。 值得注意的是,在下载工艺文件之前,您需要确保您的系统符合TSMC的要求,包括操作系统版本、所需的软件工具和环境设置等。另外,为了保障您的数据安全,建议您只从官方渠道下载工艺文件,避免使用未经授权的第三方网站或渠道。 一旦您成功下载了TSMC 65纳米工艺,接下来您可以根据提供的文档和指南,进行安装和配置工作。在使用工艺进行设计和仿真之前,请确保您已充分了解工艺的特性和限制,以及相关的设计流程和方法。如有疑问,可以随时联系TSMC官方技术支持团队,获取帮助和支持。 总的来说,下载TSMC 65纳米工艺需要您首先注册TSMC官方网站账户,确认项目需求,选择合适的工艺版本,并通过官方渠道下载和安装工艺文件。在这个过程中,官方文档和技术支持团队的帮助都是非常重要的。祝您顺利完成工艺的下载和应用!

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