简述
因为要使用电磁仿真一个电感,为了更精确的仿真,我们需要知道各层结构,而TSMC的cadence PDK中有.ift文件,可以使用ads自带的小程序eesofsubed.exe来转化文件,这里记录一下需要注意的关键点,否则转换出来的会乱。
环境
ADS2022update2
centos7
IC618
TSMC65nm(OA)
过程
1准备好转化的文件
找到所需工艺的衬底文件.itf和对应的techfile文件
查找文件技巧
点击右上角查找,在弹出的搜索框中输入
.itf
根据需要选择你所需的工艺库
同理
找到techfile,techfile不是随便哪一个都行,而是根据你上面选的.itf文件相对应,比如说,我们选择cln65lp_1p07m+alrdl_4x2z_typical.itf,则techfile要选择对应文件夹的techfile,不然之后导出会乱
2转化
在windows端在ADS安装目录找到eesofsubed.exe这给软件,注意你的软件版本要是ADS2022update2,即Substrate Editor
不然导出来没有金属层和过孔
File=》import ITF File出现如下界面
![在这里插入图片描述](https://img-blog.csdnimg.cn/b036c6e3857f49d4ac9e91288baa8c9f.png
选择你刚刚找到的两个文件,还可以选择输出文件的位置,如果有需要设置基板厚度,然后点import,这样就导出了所需的.itd文件。
3查看并修改
打开layout中
出现如下图,点OK
点Create Substrate
出现如下,点击File=》import=》itd substrate file
可以看到有都很齐全
但是还是出现了乱码的问题,我们找了很久的问题
发现是软件本身的问题,具体问题是ADS的标准库占用了0到39所有的Number
导致所有导入的所有都后延了,层文件的序号乱了,而金属层对应的需要没变,所有出现了上面的乱码。
解决方案1
手动改,根据工艺的文件改,我找的是TN65CMSPO07_1_7.pdf中的来更改。
最后结果是这样的,中间添加了过孔和两层金属。
解决方案2
使用Linux版本中的ADS的ADS Dynamic Link功能,即用virtuoso的版图,在使用你导入的itd衬底文件,并用自己的电磁仿真功能,最后得出结果,这样就避免了乱码的问题。
注意
1、软件版本要是ADS2022update2,我演示用的ADS2020update1,所以导出的.itd文件没有过孔和金属层。
2、我们可以看到官方文件中的有些金属层贯穿了好几层不同的介质,但在仿真中,不能根据实际设置,好在可以将几层介质等效成一层介质。参考ADS螺旋电感仿真。
致谢
感谢吴奇,衬底的文件是吴奇成功导出的,不然手动输出文件会影响我这个强迫症的,虽然最后的误差并不会很大。