code epi 光场_基于EPI的光场图像特征点检测方法与流程

本发明属于计算机视觉技术领域，涉及一种基于epi的光场图像特征点检测方法。

背景技术：

光场成像技术是计算机视觉领域的热点研究方向，光场是一个研究的热点领域，简而言之，光场是一束光在传播过程中，所包含的信息涵盖光线强度，位置，方向等信息，比如用l表示光的强度，(s,t)平面是在空间中光的位置，(u,v)是在空间中光线的散布方向，是一个四维的参数化表示，是空间中同时包含位置和方向信息的四维光辐射场。光场图像含有大量丰富的信息，位置和角度信息，所以可在后期进行焦点的调节，达到先拍照后聚焦的效果。从而解决特殊场合图像的失焦、背景目标过多的问题。克服了传统成像存在遮挡，丢失深度等缺点，对场景的描述更加的全面。通过合成孔径技术实现“透视”监视，在与显微技术融合后，还能得到多视角大景深显微图像，以及重建后的三维立体图。

图像的特征点提取是计算机视觉应用中的一个重要组成部分，光场图像特征点检测有广泛的应用，可用于差错检测、人脸建模、深度估计。目前对光场图像特征点检测对在光场图像子孔径图像上做检测，其检测到的特征点不准确。

技术实现要素：

本发明的目的是提供一种基于epi的光场图像特征点检测方法，解决了现有光场图像特征点检测中存在的特征点检测不准确的问题。

本发明所采用的技术方案是，

基于epi的光场图像特征点检测方法，具体按照以下步骤实施：

步骤1，输入光场图像，对光场图像进行预处理，得到光场图像的子孔径图像矩阵；