模拟电路知识点总结(详细版)-- PN结

一、半导体:介于绝缘体和导体之间

 

二、本征半导体:纯净的半导体

 1.晶体结构:正四面体

 2.载流子:

   本征激发:逃离共价键的束缚,成为自由电子

   (本征半导体的本征激发,通常是由温度引起的晶体结构内部的共价键断裂,而导致电子或空穴逃离共价键的运动)

    ①自由电子

    ②空穴

 3.复合:自由电子和空穴的复合,成为共价键,而使其彼此湮灭

 4.影响复合和本征激发的因素:载流子的浓度、温度

 5.载流子的浓度:与温度相关

 

三、杂志半导体

 1.概念:掺入少量杂志元素的本征半导体

 2.N型半导体(N:Negative,负极)

  ①掺入元素:磷(+5价元素)

  ②多子:自由电子(自由电子带负电)

  ③少子:空穴

  ④温度影响:对多子的影响不大,对少子的影响大

  (少子的总的基数少,受温度影响后,使得激发出来显得比较多,所以受温度影响大)

 3.P型半导体(P:Positive,正极)

  ①掺入元素:硼(+3价元素)

  ②多子:空穴

  ③少子:自由电子

 

四、PN结

 1.扩散运动:多子的运动

 2.空间电荷区:又称耗尽层、阻挡层、PN结

 3.漂移运动:少子的运动(克服内电场的运动)

 4.动态平衡:多子的扩散运动和少子的漂移运动达到动态平衡

 5.对称性结:P型和N型的掺杂浓度一样

 6.不对称结:掺杂浓度不一样(浓度低,宽;浓度高,窄)

 

五、PN结的单向导电性

 1.外加正电压:削弱内电场,扩散运动加强

 2.外加反向电压:增强内电场,漂移运动加强

 

六、PN结的电流方程

 1. i i i = I s ( e U U T − 1 ) I_s(e^{\frac{U}{U_T}}-1) Is(eUTU1)

 ( I s I_s Is:反向饱和电流, U T U_T UT = 26mV(室内条件下))

 

七、PN结的伏安特性曲线

在这里插入图片描述

 1.正向特性

  ①死区电压

   死区电压是指,PN结正偏时需要克服的开启电压, U D ( o n ) U_{D(on)} UD(on)

  ②导通电压

   a、硅管(Si):0.6 ~0.7V
   b、锗管(Ge):0.2 ~0.3V

 

 2.反向特性

  ①反向击穿

   a、雪崩击穿:
     雪崩是链式反应(掺杂浓度低的时候);温度升高时雪崩击穿的电压越高。
   b、齐纳击穿:
     (掺杂浓度高的时候);温度升高时,齐纳击穿所需的电压越低。
     (击穿时,二极管不一定会烧毁)

 

八、PN结的电容效应

 1.势垒电容

  耗尽层宽窄变化所等效的电容称为势垒电容 C b C_b Cb

在这里插入图片描述
 

 2.扩散电容和非平衡少子相关

  扩散区内,电荷的积累和释放过程与电容器充放电过程相同,这种电容效应称为扩散电容 C d C_d Cd

 
 

九、参考资料

 [1]清华大学电子学教研组编, 诗童白, 华成英原主编, 等. 模拟电子技术基础[M]. 5版. 北京:高等教育出版社, 2015.

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