FDTD solution 思维导图笔记
思维导图:
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视频地址:FDTD solution官方初级入门教学
一、编辑器布局
Materials:选择材料
- etch:折射率为1(即背景的折射率指数)的材料,用于表示刻蚀孔
structures:添加基本结构
可从GDSII或STL格式的CAD文件中导入更复杂的几何图形
Simulation:指定仿真几何形状、仿真时间、网格设置和边界条件
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常规选项 General
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设置尺寸
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背景折射率
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仿真时间
- 仿真需要的最长时间段
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仿真温度
- 用于折射率受温度影响的材料
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几何图形Geometry
- 设置大小和位置
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网格设置Mesh settings
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网格类型Mesh type
- 自动非均匀网格(建议)
- 自定义非均匀网格
- 均匀网格
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网格精度Mesh accuracy
折射率越高的材料,网格越小,因为高折射率材料的有效波长越小
- 精度2:标准
- 精度4或5:高精度
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时间步长Time step
仿真不稳定时,需要较小的时间步长
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边界条件Boundary conditions
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PML:最为常用
- standard:大多数仿真的最佳选择
- stabilized:遇到数值发散问题时使用
- steep angle:陡峭的角度入射时使用
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periodic:模拟周期性结构
- 平面波源适合当做用于对周期性结构进行模拟时的光源
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Bloch:光以一定角度入射时使用,在对周期性结构进行模拟时使用
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高级选项Advanced ptions
Sources:设置光源
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偶极子光源 Dipole point source
- 可用于表示点源
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高斯光束光源 Gaussian beam source(有限大小)
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平面光源 Plane wave source
-
通常用于表示入射在周期性结构上的光束
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Plane wave type
- Block/periodic(适合法线方向入射,周期性结构)
- BFAST:允许在宽带波长范围内以恒定的角度注入光(用于周期性结构)
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全场散射光源 scattered-field source(有限大小)
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模式光源 Mode source
- 注入波导或光纤的支持模式
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自定义 import source
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全局选项 Global properties
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选择流程:
Monitors:监视器,用于记录模拟结果
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折射率监视器:测量结构折射率
- 可用于检查结构形状
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时间监视器:测量电场随时间和频域功率的变化
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频率监视器:推荐使用field and power的那个;测量不同频率下电磁场的各种参数
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电影监视器
- 文件会存储到工作文件夹下
- 动态显示电磁场变化情况
Groups:对结构、源和监视器进行分组并返回自定义结果
二、案例
案例一:周期性的蚀刻膜
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基本设置
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①建立纳米孔阵列
- 设置膜
- 设置衬底
- 在Object library中设置周期性的刻蚀孔
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②设立仿真条件
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设置仿真形状、网格设置(控制精度)、边界条件
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在模拟周期性结构时,建议使用“steep angle”PML结构(更有效的吸收各个方向来的结构光);
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经验法则:我们希望在PML前面至少有一个均匀材料波长的一半的距离
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Simulation中添加网格覆盖区域
- 网格覆盖区用于指定模拟体积中局部区域上的网格步长;
- 更精细的网格步长可以提升收敛精度
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③设置光源
- 设置光源大小和范围、波长范围
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④设置监视器
监视器可以设置在模拟区域之外,只有模拟区域内的区域数据会保存
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设置折射率监视器
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设置频率功率监视器以测量反射光谱
监视器选择Monitors——Frequency-domain field and power;
把监视器拖动到源的上方来测量反射场 -
复制得到新的频率监视器,拖动到衬底内测量透射光谱
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设置其它监视器
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⑤改进:利用结构和源的对称性来减少需要模拟的模拟量
- 改变Simulation中的边界条件
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运行前检查
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在材料资源管理器中检查材料的配合
确定模拟的材料准确的描述真实的材料
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如何获得更好的拟合?
- 增加系数数量
- 虚部拟合不太好:增加虚部比重
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从模拟工具栏中的检查按钮检查内存报告
- 确保有足够内存进行模拟
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结果分析
案例二:测量入射到光栅上的光的反射量(2D)
三、快捷键
编辑对象:E
四、设计工作流
建立仿真
1.运行
2.分析结果
3.根据结果修改设计
4.重新仿真
先用粗精度进行大范围仿真,再用高精度在小范围进行仿真