xrd连续扫描和步进扫描_XRD简答

二次特征辐射(

X

射线荧光辐射)

：当高能

X

射线光子击出被照射物质原子的内

层电子后，较外层电子填其空位而产生了次生特征

X

射线(称二次特征辐射)

。

应用：

X

射线被物质散射时，产生两种现象：相干散射和非相干散射。相干散射

是

X

射线衍射分析方法的基础。

非相干散射：

当

χ

射线经束缚力不大的电子或自

由电子散射后，

可以得到波长比入射

χ

射线长的

χ

射线，

且波长随散射方向不同

而改变，

这种散射现象称为非相干散射。

非相干散射波长

与入射线与衍射线夹角

相关，

荧光辐射

波长与吸收限频率相关。

非相干散射

会增加连续背影，

给衍射图

象带来不利的影响，

特别对轻元素。

荧光辐射

对

X

射线衍射分析是有害的，

它增

加衍射花样的背底，但它是

X

射线光谱或能谱分析的基础。

滤波片：

使

X

射线管产生的

X

射线单色化，

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