使用干涉光刻和旋转涂覆定向组装纳米粒子图案的简便方法

研究背景

在表面上制备具有所需形态的各种性质的纳米粒子排列阵列是创造新型纳米尺度材料和设备的重要步骤。一维或二维（1D/2D）微/纳米胶体结构的组装和制造对于这一目的非常有希望。这些微/纳米胶体阵列可能在光子材料、光电子器件、生化传感器、模板处理（纳米球光刻、胶体印章、有序多孔材料等）中找到应用。开发一种通用的制造技术来生产这些有序阵列对于这些应用的成功是关键要求。

研究主旨

论文介绍了一种利用干涉光刻和旋转涂覆技术在平面上定向组装纳米粒子的简便方法，实现了直径约100纳米的二氧化硅纳米粒子周期性阵列的制备。该方法能制备出周期从几百纳米到几微米的平行粒子阵列和连续交叉网络，且可通过调整工艺条件控制粒子图案的形态。此方法为光子材料、光电子器件、生化传感器等领域提供了新的制备手段。

研究特点

我们提出了一种简便的方法，使用干涉光刻和旋转涂覆将直径约100纳米的二氧化硅纳米粒子在平面上自组装成周期性阵列。通过干涉光刻制备了作为旋转涂覆过程模板的周期性光阻图案。将二氧化硅纳米粒子分散液旋转涂覆在这些图案化的表面上，然后去除光阻，留下平面上的周期性纳米粒子图案。成功地制备了周期从几百纳米到几微米的平行粒子阵列和连续交叉网络，覆盖面积达数平方厘米。通过改变工艺条件可以控制粒子图案的形态（周期、层宽和厚度等）。

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