氢氟酸,这种剧毒液体竟然会被用在晶圆的生产中,这个可能让你匪夷所思。实际上,氢氟酸这种看似普通的清澈液体,实则在芯片生产中扮演了至关重要的角色。
氢氟酸(Hydrofluoric acid,化学式:HF),是HF气体的水溶液。 物理性质:氢氟酸是一种无色液体,具有强烈的刺激性气味。沸点19.5摄氏度,易挥发。
氢氟酸(Hydrofluoric acid,化学式:HF),是HF气体的水溶液。 物理性质:氢氟酸是一种无色液体,具有强烈的刺激性气味。沸点19.5摄氏度,易挥发。
- 清洗作用:硅在暴露在空气中时会形成一层氧化硅(SiO2)层。在许多制程步骤中,如在热处理过程之前,需要移除这层氧化硅。氢氟酸是唯一能够有效清洗硅片表面氧化硅的化学品。氢氟酸能够与SiO2发生反应,生成挥发性的氟硅酸,从而清除硅片表面的氧化物层。
- 湿法刻蚀:氢氟酸是湿法刻蚀过程中常用的蚀刻液。湿法刻蚀是通过化学反应去除表面材料的过程。在一些工艺中,需要通过湿法刻蚀来形成所需的结构。氢氟酸可以用来刻蚀硅和一些硅的化合物。
- 工作时必须穿着防酸衣、酸强防护手套,和防酸防溅的面罩或护目镜。操作氢氟酸应在良好通风的条件下,最好在化学品抽气罩下进行。
- 工作区域应设有紧急淋浴和洗眼设备,并应定期检查其是否正常工作。
- 使用氢氟酸的人员应该接受适当的化学品安全训练,了解如何正确处理和存储氢氟酸,以及在发生意外时如何进行紧急处理。
- 氢氟酸应储存在耐腐蚀、有通风设备且可以防止泄漏的柜子里。此外,氢氟酸不应储存于玻璃容器中。
- 如何救治?
- 皮肤或眼睛接触到氢氟酸后,应立即用大量清水冲洗,至少持续15分钟。确保所有的氢氟酸都被冲洗掉,防止其进一步侵入人体。清洗完后,使用六氟灵进行中和处理。六氟灵能和氢氟酸中的氟离子结合,最后送医治疗。
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