文章详细解释了真空泵和压缩机在半导体制造中的作用，区分了两者的工作原理，提到了干泵和分子泵的分类，以及国内外知名的供应商如爱德华、荏原等。知识星球为芯片制造和封测社区提供丰富的学习资源。
真空泵的主要作用是抽除反应腔中的气体，以降低容器内的压力，从而达到预定的真空度。在晶圆厂中，蚀刻设备，沉积设备，EUV光刻设备,离子注入设备,检测和表征设备等都需要抽真空。压缩机的作用是吸入气体并将其压缩，增加气体的压力，我们常说的CDA气体，就是由压缩机提供的。CDA用于控制各种自动化设备和阀门。对于半导体制造来说，CDA必须非常纯净和干燥。压缩机输出的空气需要通过精密的过滤系统去除油分、水分和其他微粒，确保不会对晶圆造成污染。 真空泵与压缩机的分类？半导体设备中，常用干泵和分子泵。干泵是指不使用任何液体作为密封或冷却介质的真空泵，避免了油蒸汽的污染问题。一般用于半导体设备的粗真空的抽制。而分子泵能够达到极高的真空度，干泵和分子泵在半导体设备中往往联合使用，以满足不同真空级别的需求。压缩机可分为活塞式，螺杆式，离心式，旋转叶片式空压机等。 有哪些知名供应商？真空泵：爱德华、荏原，Varian、Leybold，ULVAC等压缩机:Atlas Copco、Ingersoll Rand、Danfoss等
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