等离子体技术【十五】--自动阻抗匹配器

1、阻抗匹配的作用  

  高能量射频源被用于等离子体沉积和光刻过程中。在不同的生产过程中,等离子体室阻抗的变化十分复杂。为了提高集成电路品质,需要在工作期间保证等离子体均匀稳定。而有关实验证明,系统的输入功率直接影响等离子体的浓度和压力。因此,从功率角度来看,需要稳定系统的输入功率。换句话说,要保证等离子体发生室能够完全吸收来自射频源的功率。在等离子体反应的负载特性动态变化的情况下,实现高精度的自动阻抗匹配是保证等离子体均匀稳定的主要手段

  实际的匹配网络除了减少功率损耗功能外,还有其他功能:比如减小噪声干扰、提高功率容量、提高频率响应的线性度、抑制高次谐波等。

  而自动阻抗匹配器,能够及时跟踪等离子体负载复杂的阻抗变化,保证负载和源之间阻抗匹配,从而保证从射频源输出的功能都能被等离子体负载全部吸收。

 

2、阻抗匹配的分类

  A、共轭匹配

  当负载和射频源内阻共轭相等时,可获得最大的传输功率。这一最大功率传输条件称为共轭匹配。如下,当Zin=ZG*时,即为共轭匹配,获得最大功率。a4368fea397e4c679ce6b4ef1f71f2c7.png

 B、传输线匹配

  当负载和传输线的特征阻抗以及射频源内阻三者相等时,射频源发出的电压波全部达到等离子体负载,而不会在三者之间产生反射。通常将这一无失真电压传输条件称为传输线匹配

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 从反射的角度而言,反射系数Γ=(ZL-Z0)/ (ZL+Z0),当ZL=Z0时,反射系数Γ=0,即不产生反射,入射电压完全被负载端吸收。

  只有在传输线的长度和波长可相比拟时,才考虑传输线和负载的阻抗匹配。对于工业上使用的射频源,其频率绝大多数是13.56MHz,对应波长是20m多,传输线相比于波长而言是“短线”(一般不足1m),信号在传输线上反射对电路影响极小,可以忽略不考虑。

 

=======>因此自动阻抗匹配主要研究射频电源与等离子体负载之间的共轭匹配问题<=========

 

3、阻抗匹配的电路实现

  1、Γ型匹配(或L型匹配)

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       图中ZL<RS,以上仅为示例,实际中的ZL的负载幅值要>50Ω,因此L型匹配的手臂应指向阻抗较小的一侧。

  从smith圆图上看,L型匹配的并联到地元件,轨迹是与电抗圆平行(即保持电抗不变),即保持虚部不变,调实部电阻值

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       L型匹配的串联元件,轨迹是与电阻圆平行(即保持电阻不变),即保持实部不变,调实部电抗值(虚部)

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 以下为某13.56MHz实例Matching

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随着射频技术进入镀膜工艺之后,射频匹配也随之成为需要解决的问题。射频电源的功率应尽可能的用于镀膜工艺中,系统的输入功率直接影响到等离子体的浓度和压力,也就直接影响了镀膜的质量,关系到工艺水平的好坏。在一定条件下,镀膜系统负载是随时间发生变化的,这使得阻抗的自动匹配变得更为必要。而国内现在都是以手动匹配为主,射频电源自动阻抗匹配的发展是一个瓶颈。因此,自动匹配技术的研究有很重要的意义。   本文以真空实验室的射频RF-500型射频等离子体增强CVD镀膜机相配套的射频电源阻抗匹配RS-500为研究对象,对射频电源的手动阻抗匹配的原理和设计进行研究,并把传入电表的信号传入计算机中进行自动控制,实现自动匹配。本文以功率检测模块的详尽设计和对系统建立的数学模型进行控制仿真为重点研究内容,结合功能较为完善、技术相对成熟的其他模块如传动模块、信号转换模块等的分析研究,提出了射频电源自动阻抗匹配较为完善的设计方法,在总体结构设计原理上有一个相对完整的认识。   本文电路的设计是基于匹配原理的,即随着镀膜过程中等离子体阻抗的变化,通过阻抗匹配来实现整体传输电路的共辆阻抗匹配,使得入射功率始终达到最大,反射功率达到最小,以保证镀膜的质量。等离子体的变化,可以等视为电路中的一个阻抗,匹配通过调节自身模块中的两个可变电容,来实现整个传输电路的共扼匹配。确定共扼匹配的方法是通过检测入射功率和反射功率,使得入射功率达到最大,反射功率达到最小为宜。功率可由电流、电压和两者之间的相位来表征,即P=U*I‘cose。在功率检测模块,测量电流的电流互感选用性能优于传统线圈的Rogowski线圈,测量电压的电压互感选用电容式电压互感,由于两者的相位在镀膜过程中固定,因此两者的相位角不变,不用测量。由电流互感和电压互感组成的定向耦合装置,是功率检测模块的核心部分。本文着重分析了功率检测模块的电路,提出了合理的设计方案。然后通过对其他各个模块的分析,得出可行性的设计方案。最后对传输电路进行数学模型的建立,并用MATLAB对信号进行PID控制仿真,得出了有效的控制方法。

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