[光刻] 2-邻近效应简介

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2020-03-05小刘科研笔记之电子束光刻中的临近效应以及其修正的方法 - 简书

https://wenku.baidu.com/view/4f9315be68ec0975f46527d3240c844769eaa0ac.html?_wkts_=1726907928133

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https://sqdl.shanghaitech.edu.cn/_upload/article/files/82/67/f8759e05488dbdcd0e1ef8dc60ec/660bd00f-7eb0-41bf-a088-27c139f30e5d.pdf

http://mems.xmu.edu.cn/upload/tinsfile/1661765691exxju.pdf

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显影后的抗蚀剂图案，可以从以下几个方面进行描述：

1. 图案完整性：

描述抗蚀剂图案的完整性，如“显影后的抗蚀剂图案清晰且完整，无明显缺陷或断裂。”

1. 边缘质量：

关注图案的边缘特征：“图案边缘锐利，过渡平滑，未出现模糊或毛刺现象。”

1. 尺寸一致性：

提及图案尺寸的精度：“显影后的图案尺寸与设计值一致，具有良好的尺寸控制。”

1. 表面均匀性：

描述表面状态：“抗蚀剂表面均匀，无气泡、皱纹或其他表面缺陷。”

1. 曝光与显影效果：

强调曝光与显影过程的成功：“曝光和显影过程有效，未出现过度显影或不足显影的情况，确保了图案的高质量。”

1. 应用效果：

提及图案在后续工艺中的适用性：“良好的图案将为后续蚀刻或沉积工艺提供良好的掩模效果。”