薄膜则是集成光学系统一个关键的组成部分，LN薄膜和SiOz层形成的高折射率差对光形成限制作用-供应流延聚丙烯蒸镀金属（MCP）/二氧化硅/氧化铝薄膜定制

从20世纪末开始集成光学得到了迅速的发展，它可以实现将多个光学元件集成在同一块芯片材料上，形成一个结构复杂、功能强大的微型/小型器件，以实现一种或多种光学功能，在传感、通信/信号传输、环境检测等领域都有广泛的应用。集成光学在现代光通信和光信息处理应用中起了不可替代的作用，而薄膜则是集成光学系统一个关键的组成部分。将具有不同光学性质的单晶材料通过一定方式结合在一起形成薄膜材料，可以实现单一晶体所无法实现的功能。
锯酸锂(LiNbO3,LN)晶体是集成光学应用最多的一种晶体材料，因为其自身具有多种优良的光学性能，如压电、铁电、光电、光弹、热释电、光折变和非线性等光学性质。LN晶体有光学“硅”材料之称，成为少数经久不衰、源源不断开辟应用新领域的光学功能材料。近十几年以来，出现了一种制作高折射率差单晶薄膜的方法。离子注入技术和晶体键合技术相结合，将单晶银酸锂薄膜键合到沉积有SiOx(也可以是别的材料)的绝缘体衬底，制备出单晶锯酸锂薄膜(lithiumniobate on insulator, LNOI)。用的LNOI材料是三明治结构:LN薄膜/SiO2层/LN衬底。最上面是一层LN薄膜，厚度大约0.5 um，中间一层是非晶的SiO2,厚度约2 um，最下面一层是LN衬底。LN薄膜和SiOz层形成的高折射率差对光形成限制作用。光被限制在一个很小的空间内，在很低的入射能量下，LNOI制作的波导中光的能量密度就可以达到很高的量级。LN体材料中的某些光学性质，例如非线性光学效应和电光效应，在 LNOI中可以得到一定程度的加强。LNOI作为一种制作集成光学器件的理想平台,制作的光学器件的性能可能有大幅度的提高，迄今已经有不少在LNOI上制作的器件的报道。但是器件的性能在很大程度上取决于材料的性能,所我们所知,关于LNOI光学和结构属性的报道并不多。因此，对于LNOI的结构和光学属性应该进一步的探讨，这对于设计、制备、评价LNOI上的集成光学器件有帮助和推动作用。<