本文介绍了光刻技术的基本概念，包括光致抗蚀剂的类型和光刻的不同步骤，如光刻（SUSS MA6）、纳米压印光刻（EVG 520）和电子束光刻（Raith EBPG 5200）。讨论了光刻在晶体管制造中的应用，详细阐述了光刻工艺流程，从设备设计、掩模制造到曝光、开发和后处理。还涵盖了表面准备和清洁的重要性，以及如何通过超声波清洗和底漆提高抗蚀剂的附着力。
1.学习目标
了解光刻的整体概念
● 概述光致抗蚀剂，包括正抗蚀剂和负抗蚀剂 photoresist光致抗蚀剂 就是光刻胶
● 回顾光刻步骤
● 回顾光刻技术，包括不同的设备
2.光刻蚀技术种类 Lithography types
1.光刻（SUSS MA6）
2.纳米压印光刻（EVG 520）
3.电子束光刻（Raith EBPG 5200）
1. Photo lithography (SUSS MA6)
2. Nanoimprint lithography (EVG 520)
3. Electron beam lithography (Raith EBPG 5200)
Photo-litho-graphy: Greek: light-stone-writing
Photolithography is an optical mean of transferring a designed pattern onto a wafer
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