2030 年光刻胶市场规模预计 95.05 亿美元，半导体等领域厂商逐鹿

光刻胶作为一种图形转移介质，借助光化学反应，通过光刻工艺，能将掩模版上的微细图形转移到待加工基片上。它由成膜剂、光敏剂、溶剂、添加剂等主要化学成分及其他助剂构成。在紫外光、深紫外光、电子束、离子束等光照或辐射的作用下，光刻胶的溶解度会发生改变。经过适当的溶剂处理，溶去可溶解部分，就能得到所需的图像。光刻胶广泛应用于光电信息产业的微细图形线路加工，是微细加工技术的关键材料。

在光刻工艺中，光刻胶会被均匀地涂布在硅片、玻璃、金属等不同衬底上。经过曝光、显影、蚀刻等工序，掩膜版上的图形就会转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。

一、光刻胶多领域关键作用凸显

光刻胶在 PCB、LCD 和半导体等领域发挥着重要作用：

PCB 领域：光刻胶主要类型有干膜光刻胶、湿膜光刻胶、光成像阻焊油墨。

LCD 领域：彩色光刻胶和黑色光刻胶是制备彩色滤光片的核心材料。触摸屏光刻胶用于在玻璃基板上沉积 ITO，制作触摸电极；TFT - LCD 光刻胶则用于液晶面板前段 Array 制程中的微细图形加工。

半导体领域：光刻工艺是芯片制造的核心环节，成本约占整个芯片制造工艺的一定比例。光刻胶的质量和性能，直接影响芯片的性能、成品率及可靠性。

根据曝光波长的不同，光刻胶可分为普通宽谱光刻胶、g 线（436nm）、i 线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及最先进的 EUV（<13.5nm）光刻胶。光刻胶等级越高，极限分辨率就越高，同一面积的硅晶圆布线密度也越大，性能更优。

二、光刻胶行业市场规模及预测

本报告聚焦半导体光刻胶、显示面板用光刻胶和 PCB 光刻胶三大类产品展开研究。据 QYResearch 统计及预测，2023 年，全球光刻胶（涵盖半导体光刻胶、显示面板用光刻胶和 PCB 光刻胶）市场销售额达到 58.77 亿美元，预计到 2030 年将攀升至 95.05 亿美元，2024 - 2030 年的年复合增长率（CAGR）为 6.84%，展现出良好的行业前景。

三、光刻胶行业竞争格局分析

3.1 半导体光刻胶市场

当前，半导体光刻胶领域的核心厂商主要来自日本、美国和韩国，包括东京应化 TOK、JSR、信越化学 Shin - Etsu、DuPont、富士胶片 Fujifilm、住友化学和韩国东进世美肯等。2023 年，前五大厂商占据了全球约 84.7% 的市场份额。在中国本土市场，主要厂商有彤程新材（子公司北京科华微电子）、晶瑞电材、徐州博康信息化学品有限公司等。

3.2 显示面板用光刻胶市场

显示面板用光刻胶的核心厂商有富士胶片 Fujifilm、住友化学、韩国东进世美、Merck KGaA (AZ)、JSR 等。2023 年，全球前七大厂商占据了约 70.7% 的市场份额。

3.3 PCB 用光刻胶市场

在 PCB 干膜光刻胶市场，核心厂商包括旭化成、長興材料 Eternal、Resonac 等，2023 年，全球前六大厂商占据了约 86% 的市场份额。在 PCB 阻焊油墨市场，核心厂商主要有太阳油墨、容大感光、广信材料和 Resonac 等，2023 年前三大厂商占据了 72% 的市场份额 。

四、光刻胶行业未来发展趋势

随着科技的不断进步，光刻胶行业有望迎来新的发展。在半导体领域，随着芯片制程不断向更小尺寸迈进，对高分辨率光刻胶的需求将持续增长，这将推动 EUV 等先进光刻胶技术的研发与应用。在显示面板和 PCB 领域，随着显示技术的升级以及 PCB 向高密度、高精度方向发展，也将对光刻胶的性能提出更高要求。同时，国内企业在政策支持和市场需求的推动下，有望加大研发投入，提升技术水平，逐步缩小与国际领先企业的差距，在全球光刻胶市场中占据更重要的地位，进一步推动光刻胶行业朝着高质量、自主可控的方向发展，打开更为广阔的行业前景。

综上所述，光刻胶行业正处于持续发展的重要阶段。凭借其在多个领域的关键作用，以及市场规模的不断扩大，光刻胶行业在未来有望取得更大的突破。