SIMS（二次离子质谱）是高度灵敏的表面分析技术，用于研究固体表面和薄膜的成分，尤其适用于掺杂分析、薄膜成分测量和超高深度分辨率分析。其工作原理是利用聚焦一次离子束溅射样品，收集并分析产生的二次离子。应用包括半导体杂质分析、薄膜成分检测和界面研究等。
1.仪器介绍
二次离子质谱（SIMS）是一种用于通过用聚焦的一次离子束溅射样品表面并收集和分析喷射的二次离子来分析固体表面和薄膜的组成的技术。SIMS是最灵敏的表面分析技术，元素检测限为百万分之几到十亿分之一。
Schematic of a typical dynamic SIMS instrument. High energy (usually several keV) ions are supplied by an ion gun (1 or 2) and focused on to the target sample (3), which ionizes and sputters some atoms off the surface (4). These secondary ions are then collected by ion lenses (5) and filtered according to atomic mass (6), then projected onto an electron multiplier (7, top), Faraday cup (7, bottom), or CCD screen (8)
2.工作原理
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