平衡态半导体导带、价带中载流子浓度的峰值位置

对于给定的能带结构和 E F E_{\rm F} EF,求出载流子浓度峰值位置

载流子浓度随能量的分布(以电子为例):

n ( E ) = g ( E ) f F e r m i ( E ) = ( 2 m e ) 3 / 2 2 π 2 ℏ 3 E − E C ⋅ 1 1 + e E − E F k T n(E)=g(E)f_{\rm Fermi}(E)=\frac{(2m_{\rm e})^{3/2}}{2\pi^2\hbar^3}\sqrt{E-E_{\rm C}}\cdot\frac{1}{1+e^{\frac{E-E_{\rm F}}{kT}}} n(E)=g(E)fFermi(E)=2π23(2me)3/2EEC 1+ekTEEF1

仅需求出极值点 E ∗   s . t .   d n d E ∣ E ∗ = 0 E^*\ s.t.\ \cfrac{{\rm d}n}{{\rm d}E}\bigg|_{E^*}=0 E s.t. dEdn E=0和对应的极值 n m a x = n ( E ∗ ) n_{\rm max}=n(E^*) nmax=n(E)

方便起见考虑函数 f ( x ) = x 1 + e x − a f(x)=\cfrac{\sqrt{x}}{1+e^{x-a}} f(x)=1+exax ,其中 a = E F − E C k T a=\cfrac{E_{\rm F}-E_{\rm C}}{kT} a=kTEFEC为参数,归一化的能量 x = E − E C k T x=\cfrac{E-E_{\rm C}}{kT} x=kTEEC

f ′ ( x ) = e x − a ( 1 − 2 x ) + 1 2 x ( 1 + e x − a ) 2 f'(x)=\frac{e^{x-a}(1-2x)+1}{2\sqrt{x}(1+e^{x-a})^2} f(x)=2x (1+exa)2exa(12x)+1

使用 k T = 26   m e V kT=26\ {\rm meV} kT=26 meV,对于Si的能带结构,可算出

E C − E F   ( e V ) E_{\rm C}-E_{\rm F}\ {\rm(eV)} ECEF (eV) a a a x ∗ x^* x
0.5-19.20.500
0.4-15.40.500
0.3-11.50.500
0.2-7.690.500
0.1-3.850.506
0.78   ≈ 3 k T \ \approx3kT  3kT-3.000.515
0.52   ≈ 2 k T \ \approx2kT  2kT-2.000.540
0.26   ≈ k T \ \approx kT  kT-1.000.601
000.739

所以,在 E C − E F ≫ 3 k T E_{\rm C}-E_{\rm F}\gg3kT ECEF3kT的非简并的掺杂范围内,Si的电子浓度峰值位于导带以上约 k T / 2 = 13   m e V kT/2=13\ {\rm meV} kT/2=13 meV处。 E C E_{\rm C} EC接近 E F E_{\rm F} EF时已经是简并掺杂,载流子的统计不再符合费米-狄拉克分布 f F e r m i f_{\rm Fermi} fFermi

对于空穴的结论可以类比得出,即空穴浓度峰值位于价带以下约 k T / 2 = 13   m e V kT/2=13\ {\rm meV} kT/2=13 meV处(非简并掺杂)。

上面的计算没有用到 E g E_{\rm g} Eg N C ( N V ) N_{\rm C}(N_{\rm V}) NC(NV),从而应该对一般半导体都成立。

事实上 f ′ ( x ) f'(x) f(x)的实根可以显式地写出

x ∗ = W ( 1 2 e a − 1 / 2 ) + 1 2 x^*=W\left(\frac12e^{a-1/2}\right)+\frac12 x=W(21ea1/2)+21
其中 W ( z ) W(z) W(z)Lambert W-Function,它是 f ( W ) = W e W f(W)=We^W f(W)=WeW的反函数。它可以展成级数

W ( z ) = ∑ n = 1 ∞ ( − n ) n − 1 n ! z n W(z)=\sum_{n=1}^\infty\frac{(-n)^{n-1}}{n!}z^n W(z)=n=1n!(n)n1zn

从而可以对 E ∗ E^* E进行更高精度的估计。

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