高端DUV光刻机已获许可

来源：EETOP

今年6月30日，荷兰政府正式宣布了针对先进半导体设备出口的新规。根据规定，荷兰政府将要求相关企业在出口先进产品之前须获得许可证，否则不得出口。规定于今年9月1日生效。

荷兰政府最新芯片出口管制措施今天生效。不过，荷兰光刻机生产企业阿斯麦（ASML）向《中国日报》确认，目前阿斯麦已向荷兰政府提出TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统的出口许可证申请。

“荷兰政府也已经颁发了我们截至9月1日所需的许可证，允许阿斯麦今年继续发运TWINSCAN NXT：2000i及后续推出的浸润式光刻系统。”阿斯麦表示。

中国日报报道称，ASML表示，在新的出口管制条例下，今年年底前ASML仍然能够履行与客户签订的合同，发运这些光刻设备。正如此前所说，我们预计出口管制条例不会对ASML 2023 年财务展望或长期展望产生实质性影响。

不过目前获得的许可应该是仅仅用于今年内销售的，因为ASML称：“我们的客户也已知悉出口管制条例所带来的限制，即自2024 年 1 月 1 日起，ASML将基本不会获得向中国客户发运这些设备的出口许可证。”

ASML官网显示，除了更加昂贵的EUV光刻机外，还有4款DUV光刻机，其中NXT:2000i 2050i 2100i这三款为高端DUV光刻机。

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