光刻机

中科院光电所研发出365纳米波长，曝光分辨率达到22纳米的光刻机，是近紫外的光线，离极紫外还有一点差距。光刻机的波

长决定了芯片工艺的大小，波长越短，造价越高。像ASML最先进的EUV极紫外光刻机，波长只有13.5纳米，可以生产10nm、7nm

的芯片。

光刻机的分辨率(Resolution)表示光刻机能清晰投影最小图像的能力，是光刻机最重要的技术指标之一，决定了光刻机能够被

应用于的工艺节点水平。

 

http://www.elecfans.com/d/658557.html

http://www.dataguru.cn/article-15196-1.html