在没有按照下文方法掩膜后,往往会出现栅格数据偏移的情况,如下图
前提:
1、准备两个栅格数据,且A数据范围比B数据大(用于掩膜——栅格用掩膜,矢量文件用裁剪)
2、两个栅格数据需具备完全一致的像元大小,0.0498和0.05这种依然不符合,可能导致掩膜出错。
步骤:
1、重采样为一致像元大小,选择【数据管理工具】——【栅格】——【栅格处理】——【重采样】,重采样方法选默认的就行。重采样后检查像元大小是否一致。
2、掩膜提取,选择【Spatial Analyst工具】——【提取分析】——【按掩膜提取】
设置相应的输入栅格和掩膜栅格,我这里想用重采样后的NDVI数据掩膜全球柱浓度VCD数据,设置好后,点击【环境】。
下面的设置比较关键,一句话说就是输出坐标、处理范围和栅格分析全要选择用于掩膜的数据,我这里是重采样后的NDVI数据
点击确定后运行,可以看到,两张栅格图能够完全重合,且行列号大小一致。