书籍:《炬丰科技-半导体工艺》
文章:不同氮化镓刻蚀技术比较
编号:JFKJ-21-244
作者:炬丰科技
关键词:氮化镓,氮化物,二元蚀刻,轮廓仪,原子显微镜
摘要
对几种氮化镓蚀刻技术进行了综述和比较。本实验选用了氮化镓二元蚀刻技术,用Dektak轮廓仪和AFM测量了
书籍:《炬丰科技-半导体工艺》
文章:不同氮化镓刻蚀技术比较
编号:JFKJ-21-244
作者:炬丰科技
关键词:氮化镓,氮化物,二元蚀刻,轮廓仪,原子显微镜
摘要
对几种氮化镓蚀刻技术进行了综述和比较。本实验选用了氮化镓二元蚀刻技术,用Dektak轮廓仪和AFM测量了