以高渗透性聚二甲基硅氧烷(PDMS)为基体,以正硅酸四乙酯修饰四氧化三铁(TEOS@Fe3O4)为磁性基元,采用溶剂挥发法制备了PDMS/TEOS@Fe3O4磁性有机硅膜,研究TEOS修饰作用对磁性有机硅膜氧氮渗透性能的影响。
经TEOS修饰后的Fe3O4与PDMS之间具有良好界面相容性,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的机械性能得到显著提升。与PDMS/Fe3O4膜相比,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2/N2理想选择性增加;施加外加磁场后,两种磁性膜的O2/N2理想选择性分别提高。
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瑞禧生物WFF.2022.5