Co掺杂Fe3O4@MnO2/PDMS-TEOS@Fe3O4 聚二甲基硅氧烷修饰正硅酸四乙酯@四氧化三铁

通过溶剂挥发法将正硅酸四乙酯修饰的四氧化三铁(TEOS@Fe3O4)引入PDMS基体,成功制备了PDMS/TEOS@Fe3O4磁性有机硅膜。研究表明,TEOS修饰改善了Fe3O4与PDMS的界面相容性,提高了膜的机械性能。与PDMS/Fe3O4膜相比,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2/N2理想选择性增加,并在外加磁场下表现出更高的选择性。这为磁性膜在气体分离领域的应用提供了新途径。

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以高渗透性聚二甲基硅氧烷(PDMS)为基体,以正硅酸四乙酯修饰四氧化三铁(TEOS@Fe3O4)为磁性基元,采用溶剂挥发法制备了PDMS/TEOS@Fe3O4磁性有机硅膜,研究TEOS修饰作用对磁性有机硅膜氧氮渗透性能的影响。

经TEOS修饰后的Fe3O4与PDMS之间具有良好界面相容性,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的机械性能得到显著提升。与PDMS/Fe3O4膜相比,PDMS/TEOS@Fe3O4膜的O2/N2理想选择性增加;施加外加磁场后,两种磁性膜的O2/N2理想选择性分别提高。

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