即時 3D 繪圖的陰影效果

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即時 3D 繪圖的陰影效果

 

Chen Ping-Che

中華民國國立臺灣大學資訊工程學系

著於民國捌拾玖年陸月捌日至拾壹月貳拾捌日

 

planar shadow

 

在目前的即時 3D 繪圖中，要做出真實的陰影效果，是很不容易的。因為陰影是因物體遮住光源所產生的，因此，要做出正確的陰影效果，就需要對整個場景做處理，這樣才能判斷出哪些物體被哪些物體遮住了。

不過，目前的 3D 硬體，並不容易進行這類的測試，因為資料量和工作量都太大了。不過，這並不表示使用現在的 3D 硬體就無法做出陰影。現在已經有很多方法是適合用在目前的 3D 硬體上面，可以產生效果不錯的陰影。本文會就一些常用的方法，做簡單的介紹。

目前常用的方法，幾乎都是把陰影看成是「物體投射到其它表面」來處理。在光源是平行光的時候（例如，太陽光），可以看成是物體把陰影「投射」到另一個表面上，如下圖所示：

 

                             

 

如果場景中只有一個重要的光源（即最強的光源），那可以假設只有這個光源會產生明顯的陰影。以平行光源來說，要把陰影「投射」到一個平面上，就是一件相當容易的事。

 

設空間有一點 V，平行光源的方向是 L，要投射陰影的平面是 P，那麼，存在一常數 k 使

 

 

成立，如下圖（V、L、和 P 均為四維向量，表示一個三維的homogeneous coordinate）：

 

 

 

解上式得

 

 空間中的點 V 投影到平面 P 的位置是 V+kP。對一個 3D model 的每個頂點都代入這個式子，就可以得到投影的結果了。不過，因為目前的 3D 硬體都是以 4×4 的矩陣來做變換，所以如果能把投影的動作寫成一個矩陣，就會方便很多。

設 V = <Vx,Vy, Vz, 1>，L = <Lx, Ly, Lz, 0>，P = <a, b, c, d>；展開前面的式子，會發現 k 有一個分母：

  

 

因此這個式子會有點複雜。不過，因為在 OpenGL 中的向量都是 homogeneous coordinate，所以可以先把分母提出來，放到 w 中。對 Vx 展開得到：

 

 

整理一下得到

 

 

這樣就變成向量內積的形式，可以放到矩陣中。對 Vy 和 Vz 做同樣的動作，再加上放到 w 的分母部分，就可以得到下面的矩陣：

 

因此，理論上，要畫陰影時，把 MODELVIEW 矩陣設成上面的矩陣，畫出物體，就會是陰影的樣子。

上面討論的是以平行光源為主。如果光源是點光源，也可以用類似的方法來做。

這個方法可以對任何平面做出陰影的效果。如果有多個平面，可以分別對每個平面都做一次。不過，這個方法顯然是沒辦法把陰影投影到曲面上。所以，這個方法通常稱為 planarshadow。

理論的部分已經討論完了。不過，實作的時候，還有一些細節部分是需要特別注意的。

首先，如果真的直接用上面的方法來做，那做出來的結果可能會像這樣：

 

這是因為畫了圖中的地板之後，再畫黑色的陰影時，會和地板產生所謂的 Zfighting 現象，也就是陰影的一部分的 Z 值較地板的Z 值小，所以會畫出來，但是有些部分的 Z 值則可能比地板的Z 值大，所以就沒畫出來了。這種現象會使得陰影變得破碎不完整。

現在的 3D 硬體通常提供一個叫 polygon offset的功能，用來解決 Z fighting 的問題。Polygonoffset 的原理，是在畫一個物體時，要求把它的 Z 值進行一個小的調整。例如，在上面的例子中，我們可以把陰影的 Z 值減一個小的數字，這樣就可以避免 Z fighting 的現象。

處理掉 Z fighting 後，再來是第二個問題：

 

上圖中，陰影跑到地板的外面去了。這裡需要一個方法，把陰影切到地板的範圍內。這個例子中，地板的邊界是直線，所以可以用 user defined clip planes 來做。不過，如果地板是奇怪的形狀，就需要別的方法。

而且，光是把陰影切到地板的範圍內是不夠的。通常陰影是用 blending 的方式畫上去的。如果一個物體的形狀比較複雜，那有些地方可能會 blend 兩次或更多次。這樣會讓陰影看起來不是同一個顏色，即有些地方顏色較深而有些地方較淺。

現在的 3D 硬體多半支援 stencil buffer。Stencil buffer 是一個用來「做記號」的 buffer。通常 stencil buffer 可以存放 1 bits 到 8 bits 不等的數字，不同的硬體支援的大小會不一樣。目前的 3D 硬體通常把 stencil buffer 和 Z buffer 放在一起。例如，它可能支援 15 bits 的 Z buffer 加上 1 bit 的 stencil buffer；或是支援 24 bits 的 Z buffer 加上 8 bit 的 stencil buffer。因此，通常 stencil buffer 的測試是和 Z test 一起做的，也就是在使用 Z buffer 時，stencil buffer 可說是「免費」的。

在我們的例子中，可以先把 stencil buffer 全清為0。在畫地板之前，把 stencil buffer 設定為「當Z test 通過時，把 stencil 的值設為 1」。這樣一來，畫完地板之後，地板所佔有的那些 pixels 的 stencil 值就都會是 1，其它的地方還是 0。現在，把stencil buffer 設定成「當 Z test 通過時，若 stencil 的值為 1 才畫，且將stencil 的值設為 0」。然後開始畫陰影。這樣畫出來的陰影，一定會在地板的範圍內，而且每個 pixel 只會被畫一次，不會出現 blend 兩次的情形。

如果有多個平面要投影，可以為每個平面指定不同的 stencil 值。不過，如果 stencil buffer 只有 1 bit，那就沒辦法了。這時，可能就需要在畫下一個平面之前，先把 stencil buffer 清掉，這樣會花很多時間。

下圖是一個完整的例子：

 

參考程式可以在這裡下載。這個程式需要至少 2 bits 的 stencil buffer 支援。

Planar shadow 就差不多是這個樣子了。Planar shadow 的好處是簡單、容易做，而且在投影面不多的時候，速度很快。但是，當投影面變多時，或是物體很複雜時，速度很快就會變得很慢，因為對每個平面都需要把投影的物體再畫一次。而且，它只能投影在平面上，對於不規則的表面則完全沒辦法。

還有一些別的方法可以產生陰影的效果。後面還會再討論一些產生 shadow 的方式，都可以投影在任何不規則的表面上。




volumetric shadow

前面所介紹的方法，即 planar shadow，只適用於平面上。但是，除了少數的情形之外，絕大多數的情形下，根本無法預測陰影會被投射在什麼樣的表面上。所以，我們需要自由度更高的方法。

在這裡介紹一個較為靈活的方法，它可以將陰影投射在不規則的表面上。這個方法稱為 volumetricshadow。這個方法的動點在於，它並不是利用「把物體投影到表面」的方式來產生陰影，而是去找出場景中，有哪些 pixel 是在陰影中。也就是說，想像一個物體擋住光時，在物體的後面會形成一個大的「陰影錐」。很明顯的，若一個 pixel 在「陰影錐」之中，那它就是在陰影之中。如下圖所示：

上圖中的紅色球體，在受光照後，在後方產生一個「陰影錐」，即 shadow volume，而這個「陰影錐」和灰色平面的交集，就是陰影會出現的地方。

所以，基本上 volumetric shadow 的原理是很簡單的。不過，要真正實作又是另一回事。為了簡單起見，這裡先以一個簡單的三角形開始。目前的 3D 繪圖幾乎都是以三角形為基礎，所以從三角形開始，應該是很適當的。

現在，假設有一個已經繪製完成的 3D 場景。因為使用 Zbuffer 的關係，對每一個 pixel 而言，都有一個相對的 Z 值，即表示該 pixel 和觀察者的距離的值。如果現在有一個三角面，把陰影投射到這個 3D 場景中，並畫出這個三角面的「陰影錐」。因為物體是一個三角形，所以它的「陰影錐」也是一個三角錐。這時，要如何知道 3D 場景中，有哪些 pixel 是和這個三角錐有交集？

其實方法很簡單。想像許多射線，由觀察者射向每個 pixel。如果射線和「陰影錐」完全沒有交集，它所對應的 pixel 當然就不會和「陰影錐」有交集。不過，即使是射線和「陰影錐」有交集，並不一定表示該 pixel 就一定和「陰影錐」有交集，因為射線可能會射入「陰影錐」後又射出。所以，只有在射線射入「陰影錐」之後，在離開「陰影錐」之前就遇到其對應的 pixel 時，才表示這個 pixel 和「陰影錐」有交集。下圖顯示出各種不同的情形：

 

上圖中的 (1) 和 (2) 都是面對觀察者的面，所以它們所涵蓋的pixel，就是「射線會射入陰影錐」的 pixel。而 (3) 則是背對觀察者的面，所以它所涵蓋的 pixel 是「射線會離開陰影錐」的 pixel。所以，會和陰影錐有交集的 pixel，就是 (1) + (2) - (3) 的那些 pixel，也就是陰影所在的位置。

不過，要怎麼在一般的 3D 繪圖硬體中，得到 (1) +(2) - (3) 的結果呢？和 planar shadow一樣，這需要 stencil buffer。在 OpenGL 和 Direct3D 中的 stencil buffer 都可以讓它進行「加一」和「減一」的動作。所以，只要把 stencil buffer 設定成：在繪製 (1) 和 (2) 的面時，讓 stencil buffer 加一；而在繪製 (3) 的面時，讓 stencil buffer 減一。這樣一來，在畫完 (1) ~ (3) 時，那些 stencil 值不為 0 的 pixel 就是陰影了。最後，把所有 stencil 不為 0 的pixel 利用 alpha blending 的方式，使其亮度降低，就可以達到繪製陰影的效果。

上面的例子是用一個三角面。對於比較複雜的物體，其原理還是一樣的。當物體是由許多三角面組成時，可以把所有面對光源的三角面都進行上面的動作，就可以產生陰影。不過，這樣有個缺點：因為很多三角面的邊是接在一起的，所以這樣做會十分浪費時間。要提高效率其實也很容易。在繪製「陰影錐」的時候，若有一個邊是被兩個三角面所共用，那就表示這是一個「內部」的邊，在繪製「陰影錐」的時候，就可以不用去畫這個邊。這樣就可以省下不少的時間。

這個方法適用於非常複雜的物體。不過，它還是可能會遇上一些問題。一個情形是，如果觀察者在「陰影錐」的內部，會發生一些麻煩的情形。不過，對大部分的情形來說，只要將 stencil buffer 設定成「減到 0 就停止」，即 0 - 1 = 0，就可以解決。當然這無法解決所有的問題，不過通常已經夠好了。另外，如果物體不是 convex（即「凸」的），那可能會出現「射線重覆進入陰影錐」的情形。這種情形並不會有問題，不過 stencil buffer 就需要比較多 bit 才不會出錯。一般來說，4 bits 就已經可以處理絕大多數的物體的。

下面的畫面是 volumetric shadow 的結果，是由 DirectX 8 SDK 中的一個示範程式所產生的。這個程式的結構並不複雜，所以有興趣的話，可以自行參考它的原始碼。

這個方法比 planar shadow更能適用於不同的場景。不過，它當然也有缺點。最主要的缺點是在於它的複雜度。要做出有效率的「陰影錐」，需要對物體做相當麻煩的處理，基本上就是要找出物體在某個方向的「外緣」（即 silhouette）。雖然這並不太難做，但是還是需要花費相當的 CPU 時間去處理。另外，為所有的物體繪製出其「陰影錐」，需要相當大量的 fill rate 和記憶體頻寬。若是 deferred renderer（例如 tile renderer）則影響不會這麼大，特別是 tile renderer 可以支援一些特別的功能，來加速volumetricshadow 的動作。

基本上，volumetric shadow 的效果，一般來說都不錯。最主要的缺點則是在效率方面，特別是當物體的複雜度和數量增加時，CPU 需要的工作量會大增，是較為不理想的。後面會再介紹一些速度更快的方法。