线性反锐化掩膜

反锐化掩模技术最早是应用于摄影技术中，以增强图像的边缘和细节。光学上的操作方法是将聚焦的正片和散焦的负片在底片上进行叠加，结果是增强了正片高频成份，从而增强了轮廓，散焦的负片相当于“模糊”模板（掩模），它与锐化的作用正好相反，因此，该方法被称为反锐化掩模法。

 线性反锐化掩模（UnSharp Masking，UM）算法首先将原图像低通滤波后产生一个钝化模糊图像，将原图像与这模糊图像相减得到保留高频成份的图像，再将高频图像用一个参数放大后与原图像叠加，以达到提高图像中高频成分、增强图像轮廓的目的。最初将原图像通过低通滤波器后，因为高频成份受到抑制，从而使图像模糊，所以模糊图像中高频成份有很大削弱。将原图像与模糊图像相减的结果就会使f(x、y)的低频成份损失很多，而高频成份较完整地被保留下来。因此，再将高频成份的图像用一个参数放大后与原图像f(x、y)叠加后，就提升了高频成份，而低频成份几乎不受影响。