屏蔽技术是利用屏蔽体阻断或减小电磁能量在空间传播的一种技术,是减少电磁发射和实现电磁骚扰防护的最基本、最重要的手段之一。
采用屏蔽有两个目的:一是限制内部产生的辐射超出某一区域;二是防止外来的辐射进入某一区域。
3.1 自屏蔽
自屏蔽是指不增加外部屏蔽体,仅依靠合理的电路设计及结构布置,使在基本不增加成本的基础上达到屏蔽效果的方法。
3.2 电场屏蔽
电场屏蔽的目的是消除或抑制静电场或交变电场与被干扰电路的电耦合。
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静电场屏蔽:要实现静电场屏蔽,需要满足两个条件:①有完整的屏蔽体;②屏蔽体良好接地。
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交变电场屏蔽:要获得好的电场屏蔽效果,应采取如下措施:
① 使屏蔽体尽量包围被保护电路,完全封闭的屏蔽效果最好,开孔或有缝隙会使屏蔽效果受到一定影响;
② 使屏蔽体良好接地,并且靠近被保护电路;
③ 屏蔽体采用良导体,对厚度没有要求,能满足机械强度要求即可;
3.3 磁场屏蔽
磁场屏蔽的目的是消除或抑制恒定磁场或交变磁场与被干扰回路的磁耦合。通常,可以利用导磁材料和导电材料两种方法进行屏蔽。
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利用高导磁材料进行磁场屏蔽,为提高导磁材料的磁场屏蔽效果,应当采取如下措施:
① 使用高磁导率的材料(如坡莫合金)、增加屏蔽体的厚度,以减小屏蔽体的磁阻;
② 注意屏蔽体的结构设计,避免因开孔、缝隙等引起屏蔽体磁阻的增加,应使缝隙或条状通风孔顺着磁场方向布置,以减小屏蔽体沿磁场方向的磁阻,从而提高屏蔽效果;
③ 对强磁场的屏蔽,可采用双层屏蔽结构; -
利用导电材料产生反向的抵消磁场来实现磁场屏蔽,为提高导电材料的磁场屏蔽效果,应采取如下措施:
① 使用良导体;
② 注意屏蔽体的结构设计,避免因开孔、缝隙等而影响涡流的流通回路,应减小孔缝的最大尺寸,从而提高屏蔽效果;
③ 使屏蔽体有一定的厚度,一般要大于10倍的透入深度。
3.4 屏蔽体设计原则
- 明确电磁骚扰源及敏感单元
- 大致确定屏蔽体的屏蔽效能
- 确定屏蔽方式
- 进行屏蔽完整性设计