XPS测试在材料学上的奇思妙用 （二）-科学指南针

四、微电子学

1.X射线光电子亚微米成像[5]

X射线能谱分析（EDS）常用作对材料微区成分元素种类与含量分析,配合扫描电子显微镜与透射电子显微镜使用。而在镀膜、气相沉积和光刻等领域，XPS也可以灵活地用于分析材料表面元素覆盖率等信息。电子图像获取速度快，分辨率可达到亚微米级。这可能也是XPS最不为大家熟悉的一个应用了。

图1 金的X射线光电子图像

图2 金含量随位置变化图

2.干膜光刻的XPS分析[6]

干膜光致抗蚀剂在光刻技术中的应用越来越广泛，光致抗蚀剂通常具有聚合物基板（例如PET）和保护层（如聚丙烯），保护层在使用过程中被剥离，但该过程的效率取决于干膜保护层的界面性质。通过分析剥离后的干膜和保护层表面，可以研究这些性质。为了在剥离后全面表征聚合物表面，有必要检测和区分碳和氧键合状态的细微差别，另外，由于聚合物是绝缘体，必须中和由于X射线而产生的电荷。XPS正是用于此目的的理想分析技术，将表面灵敏度与化学选择性相结合。