优化(3)——遮罩Mask,RectMask2D

Mask必须有一个Image，Mask会打断相邻的合批，mask下的和mask外的无法合批，mask会产生两个drallcall，最开始设置模板缓存的时候会产生一次drallcall，mask下子物体都都遍历结束，需要把模板缓存还原一下，又产生一次drallcall。

需要用到mask的时候会给mask添加一种特殊的材质，导致跟外部无法合批，

合批的条件，材质id一样， 图片id也一样，

开始mask之前，设置模板缓存，mask之后还原模板缓存，分别造成了一次drallcall

模板缓存需要隐藏的地方模板缓存为0，显示的地方模板缓存为1，渲染的过程中取出像素模板缓存为1渲染，为0不渲染。渲染的0和1存在每一个像素点上，模板缓存的操作是像素级的，一个像素像素的操作，

Mask下的物体，即使被遮挡，深度计算以及drallcall在用着，

Mask下的物体之前能进行正常的合批，Mask之间满足合批条件，他们之间的元素也是可以进行合批的，

隐藏物体的框不能和可以合批的物体重叠，

 

Mask2D子物体渲染区域的操作，不占用drallcall，Mask上的Img和Mask上的Img是可以合批的，  Mask2D下的与别的Mask2D下的物体无法合批

RectMask2D比Mask节省性能，RectMask2D是给子物体传一个区域，告诉子物体，那些点需要绘制，哪些点不需要，区域外的顶点不绘制，如果物体完全移出裁剪区域，不占用drallcall，不参与UI深度运算。RectMask2D的子物体和Mask的子物体没办法合批。

如果当前场景中只有一个mask，用RectMask2D比较省。

 

OverDrall

UI填充率问题，尽量减少UI之间的覆盖，减少重叠，

 

切九宫格优化填充率，减少Text的outline，shadow的使用，会大量增加顶点数4倍，用textmeshpro

主摄像机的设置，减少Unity默认天空盒的绘制，3D场景可以设置一个3D相机，一个2D相机。

Image的平铺模式Tiled会增加顶点数，正常情况下是8，使用平铺后变为变为了68=8+15*4，每增加一个图，增加4个顶点

Image组件，改用RawImage,把图标的模式改为Repeat

更改之后没有增加额外的顶点数

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