1.应用领域:
宏观方面如印章、刻录光盘;微观方面如制备晶体管和集成电路。由集成电路加工成的
计算机构成现代信息社会的基础。广泛应用于图案转移技术中,其中最多的为光盘的制备。
2.优点:
微纳复制技术只需要制备一个模板就可以廉价、快速的加工出许多复制品
3.光刻技术的诞生:
摩尔的大胆预测:摩尔定律:“每个芯片上集成的元件数平均每18个月将翻一番”
在光学光刻中,通过减少特征尺寸得到高的产量。最小特征尺寸为:
是曝光波长,NA是透镜系统的数值孔径。通过不断减少波长,F会变小,光刻用紫
外光出现了许多技术难题。因此研发了纳米压印技术,该技术为华裔科学家周郁发明的。
4.纳米压印技术的原理:
在微纳米尺度获得复制结构的一种成本低速度快的方法。在高温条件下可以将印章上的
结构按需复制到大的表面上。才拥有那谜团的刚性模具(印章)将基片上的聚合物薄膜压出纳米
级花纹,再对压印件进行常规的刻蚀、剥离等加工,