二、仿真时间、区域、边界条件等

1.通用设置

若仅需要一个面则选择2D即可，仿真时间、温度一般默认即可，背景材料折射率默认1。

2.区域及网格

几何中设置区域，对弈整列结构，仿真一个区域结构即可，例如x span应该匹配的是阵列每个周期的长度。在网格设置中一般默认即可，网格细化决定了如何在网格单元中处理材质界面。

网格中mesh accuracy定义网格精度，其中若设置1代表每个波长有6个网格点，2代表10个，以此类推，如8代表34个（4*n+2）,其中2是被认为合适的，4或者5被认为是高精度（在使用高精度网格之前应该使用1或者2运行）。折射率越高材料网格越小（高折射率材料的有效波长越小）。当然也可在mesh refinement中设置细化方法（例如仿真曲面结构）。

其中 ：

网格细化
conformal variant 0（共变形体0）	适用于除金属和conformal variant 1外的所有材料材质（经验法则是始终使用conformal variant0，仅当网络进行收敛测试时使用conformal variant 1获取高精度结果）

注：使用周期性结构时，最好使用周期方向上整数的网格，确保每个周期都以相同方式划分网格。

此外时间步长小会增加仿真时间(某些不稳定情况下可能会使用此设置)。

3.时间

模拟时间是自动计算的，通常不需调整。

4.边界条件

  设置模拟区域中每一侧的边界条件，设置periodic以模拟周期性结构，PML则是完美匹配层，用于吸收边界。PML可在右侧进行设置，standard适用于所有边界上的PML模拟，使用周期性装置时，会将光衍射到阶跃角，因此steep angle profile更合适。具体如下：

（1）PML：吸收所有入射场，并不会产生背反射，其中profile有几种，①standard适用于所有；②当磁场以陡峭的角度入射到PML时，适用于steep angle（通常超过60°，此时PML在陡峭角吸收场效率低，角度轮廓使用更多PML层来吸收）；③仿真遇到数值发散问题时菜使用稳定轮廓；④自定义允许用户完全访问并调整所有PML参数

（2）Metal（金属）：和PML相反，类似镜子，100%反射场而没有任何吸收，此时边界相当于理想电导体。当边界的影响无关紧要（如边界场为0），此时选择金属是最佳的，因为仿真速度最快。

（3）PMC（perfect magnetic boundary完美磁导边界）：和金属相似，不过边界是完美磁导体

（4）Periodic（周期性边界）：模拟周期性结构，此时需要电磁场和光源是周期性的（平面波常用于此），因此仅需一个结构就可以模拟

（5）Bloch：用于周期性模拟，以一定角度注入光源，类似于周期性边界，其中一个边界重新出射的光从相反的边界反射（但是重新注入的光被添加了所需的相位差，此相位为光源角度引起的单位单位间累积的相位）

（6）Symmetric或者Anti-Symmetric（正/反对称）：利用结构的对称性建立边界条件，前提是结构和源在中间具有对称平面（例如关于x=0或者y=0对称）。适用此边界的主要挑战是确定存在哪种对称类型，如图。确定方法：A.选择一个对称结构进行运算和没选择对称结构运算结果比较，若结果不一致则选错，反之选对。B.根据光源偏振确定，如下图，如果源极化箭头和对称平面相切，则极化箭头和边界阴影同颜色，若源极化箭头垂直于边界，则颜色不一样（下右图）。

此外使用对称边界时，此边界仅用于‘最小（min）’边界，而‘max’应设置为没有对称性的任何边界一般是PML。唯一例外的是对周期性结构使用对称边界时，此时，在周期性方向上同时设置max和min boundary 为对称或反对称边界。同时启用‘allow symmetry on all boundaries’

5.高级设置

  其包括如何监视器的模拟带宽、材质拟合、自动关闭（在场完全衰减或模拟不稳定情况下提前结束仿真），一般默认即可。可以参考视频教程3.6节。

设置完成后，图形界面橙色代表PML、蓝色代表周期性边界（因此只需覆盖一个即可，我这多余了）

可利用网格查看工具查看生成的网格状况，某些位置如需更精细的网格，点击stimulation→mesh，并设置网格步长，在几何中基于结构中输入对象树中结构名字。然后可以查看新的更精密的网格。

6.边界设置技巧

使用PML结构时，勾选Extend Structures Through PML，此时求解器将自动扩张任何结构接触，边界的内部边缘贯穿PML边界的整个厚度，防止在边界内存在边界界面时可能发生的反射。检查何种对称时，对于电场，如果模拟区域阴影颜色与源偏振箭头颜色匹配，阴影应与源箭头方向平行，若不匹配则阴影垂直穿过箭头（磁场相反）。