现象 :局部黑面或者漏光:
解决方法1:模型属性general settings>【light map resolution】 相应提高 世界设置>lightmass>【Static lighting level 】 值越低精度越高。烘焙级别为【产品级】
解决方法2:重新展开lightmap UV 更加合理一些。UV整体与象限边界之间留出空隙。
直接现象:烘焙后整个黑面
附加现象1:导致的第一个问题,三维中法线是向内的,但是到了unreal 中法线表现就反了,而且镜像复制的模型即使反转法线也无法正常渲染
附加现象2:导致烘焙结果相反且出现整个黑面。且mesh预览缩略图为暗色。
附加现象3:导致max模型坐标是相反的,反向坐标导出就会 造成错误。
推论:因为镜像复制导致空间坐标出错,纠正即可。镜像复制的模型甚至会造成贴图导出到SP表现错误,所以模型完成后要记得修正镜像模型的坐标空间。
解决方法:
1. 不处理镜像模型,只导出原模型(如果有原模型)。
2.【重置变换】+【反转法线】纠正物体的 变换属性然后再导出到unreal中,此时便没有上述的任何问题,烘焙结果正确。