固体微电子学与半导体物理学(二)

三、 半导体中的电子状态


本章重点在于理解和推倒等能面方程,掌握回旋共振实验,深入理解有效质量。

对于比较简单的空穴电子的导电机理本章将不再赘述,请读者自行翻看课本


三、 半导体中的电子状态

3.1.1 半导体中电子的运动和有效质量

3.1.2 电子的平均速度、加速度

3.2 回旋共振和等能面*

3.2.1 一般情况下的等能面方程

3.2.2 回旋共振实验(以各向同性晶体为例)

3.3 硅和锗的能带结构*


3.1.1 半导体中电子的运动和有效质量

掌握能带结构的关键是确定E-k的关系(色散关系)

半导体中起作用的常常是接近于能带底部或顶部的电子,因此只要掌握这些能带极值附近的色散关系即可。
以一维情况为例,令d E/dk|k=0=0, E(k=0)泰勒展开

因为在E(k=0)和一阶导数为0,我们再忽略高于二次的高阶项,这时展开式就只有二次项。

 对于一个给定的半导体来说,E(k)的二阶导数项是个定值。写成经典关系式:

 m*是电子的有效质量,具有质量单位。m*的表达式为:

 m*在电子运动中比惯性质量m0更适用,且m*可以直接由回旋共振实验测得。

m*的意义半导体中的电子需要同时响应内部势场和外加场的作用,有效质量概括了半导体内部势场对电子的作用,使得在解决半导体中电子在外力作用下的 运动规律时,可以不涉及到半导体内部势场的作用。

以第一布里渊区E-k关系为例。对其分别进行一次和二次求导取倒数,得到速度关系图和质量关系图:

 在导带底,电子有正的有效质量;而在价带顶电子具有负的有效质量(此图要结合克朗尼格-朋奈模型分析)

在靠近布里渊区边界的地方,由于晶格衍射的影响E-k增速变换,数量关系将不再拟合抛物线。

我们可以得到以下结论:

——导带底能带越窄,k=0处曲率越小,二次微商越小,有效质量越大(正号,有效质量为正)

——价带顶能带越窄,曲线越舒缓。曲线曲率小,曲率半径大,有效质量越大(负号,有效质量为负)

——空穴在价带顶的有效质量为正值

3.1.2 电子的平均速度、加速度

——电子在周期性势场中的运动,用平均速度,即群速度来描述(群速度是介质中能量的传输速
度)
——布洛赫定理说明电子的运动可以看作是很多行波的叠加,它们 可以叠加为波包;而波包的群
速就是电子的平均速度
(此处只做概念性介绍,感兴趣的同学可以深入学习 《群论》
平均速度Vg:

 (1)速度的正负与有效质量正负有关

 (2)ħk=m*Vg称为电子的准动量

加速度:

引进有效质量的概念后,电子在外电场作用下的表现和自由电子相似,都符合牛顿第二定律描述

3.2 回旋共振和等能面*

——不同的半导体材料其能带结构不同,而且往往是各项异性的,即沿不同波矢k的方向E ~ k
系也不同, 有效质量也不同
——E(k )为某一定值时,对应着许多组不同的k (  kx,ky,kz ),将这些不同的k连接起来构成一个封闭面,在这个面上的能值均相等,这个面就称为等能面
——能带 极值不一定在k=0处

3.2.1 一般情况下的等能面方程

1)导带底:k0,E(k0 ) ,坐标轴:kx,ky,kz
2)定义:m x*,my*,mz *为相应方向的导带底电子有效质量
3)在 k=0这个极值附近进行三维泰勒展开并求解方程

 由上述方程形式可以看出:等能面是椭球面(椭球方程)

3.2.2 回旋共振实验(以各向同性晶体为例)

实验原理:通过改变磁场B的大小,使得电子回旋的频率等于高频电场的频率时,电场的能量会被

大量吸收,在图形上就会有一个吸收峰。通过频率ω和磁场B,就可以求得此各向同性晶体的有效

质量。

3.3 硅和锗的能带结构*

定义:

横有效质量(mt):垂直于椭球圆形截面的坐标轴方向的分量(一个)

纵有效质量(ml):平行于椭球圆形截面的坐标轴方向的分量(两个)

各向异性有效质量表达式

 其中α,β,γ表示方向余弦。

其中椭球面可以分为完全等价的三组,1=2,3=4,5=6

对于N型硅来说
使B沿三个特殊的方向进入硅:[100]方向,[110]方向,[111]方向(方向余弦都是特殊角)
在沿其它任意方向时,cos是三个不同的一般值。此时三组椭球面对应三个不同的有效质量,也就
可以观察到三个不同的吸收峰
  

 图中看出价带顶有三条能带分别对应:重空穴,轻空穴,裂出空穴,其有效质量的大小是通过曲

率半径反映出来的

m*hh=0.53m0,   m*lh=0.16m0,m3h=0.29m0;

由能带图可以看出(100)方向上是 间接带隙,此时椭球的体心在布里渊区边界0.85倍处。间接带
隙相比于直接带隙更不容易跃迁,间接带隙的半导体电子在吸收能量的同时还需要 吸收声子才能跨
越禁带发生跃迁。
由能带图也可以看出(111)方向指向第一布里渊区截角八面体的体心,此时导带底更靠近布里渊
区边界。
在k=0处,重空穴和轻空穴都是二度简并,若算上电子的自旋,则在该位置是四度简并。

锗:

锗能带的处理方法与硅相似,这里就不在赘述。值得注意的是锗用于八个,半椭球,且其体心位于
布里渊区边界。在此附上锗的能带图,请大家自行推导。


能带是半导体物理的精魄,硅是半导体行业的灵魂。

只有把二者都掌握,才能做一个合格的微电子人!

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