【工艺库】SMIC数字后端工艺库


本来是想找一个工艺库,想要其包含逻辑综合和SPICE Model相关的库文件,但是找了很久也没有直接找到想要的,主要原因还是自己对工艺库文件的构成不是很清楚,这里结合自己找到的一个工艺库,查阅一些资料之后,简单介绍一下工艺库文件的构成。

找到的一个SMIC的数字后端工艺库,解压之后,有以下文件:
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这是一个很老的工艺库了,其中有些内容已经过时了,但是做为学习,还是可以看一看的。因为自己也没有完全理解工艺库文件的构成,所以这里就先介绍自己知道的部分。

Calibre

该文件夹下有如下内容:
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Mentor公司的calibre是目前业界很多公司用于进行版图DRC和LVS检查用的软件,所以这个文件夹中存放的就是calibre使用的DRC、LVS文件。

digital文件夹

该文件夹有如下内容:
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分为了三个模块,对应数字设计中的不同电路模块,这里 sc (standard cell)为例继续展开,内容如下:

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这里其实可以看到,有些文件夹的名字是一些EDA工具的名字,就是说不同的EDA工具所需要的文件格式是不同的,库文件里面就包含了每种EDA工具所需要的文件格式。

apollo

apollo查到说是1983年诞生了第一个工作站平台,这里具体表示的是什么意思就还不是很清楚,可能表示的是一种早期的数据格式?

该目录下的文件内容是用于自动布局布线的一些文件。

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clf文件夹包含有关版图时序(time)、功耗(power)、寄生电容电阻参数的文件,4lm、5lm、6lm,是指4、5、6层金属所用到的文件。其它还有诸如1P3M,1P4M等之类的字母指的是一层poly,3层金属的工艺,依次类推。,有关版图的金属层次,需要视具体的项目而定的。tt、ff、ss指的是工艺角,t=typical,f=fast,s=slow,换句话说tt代表该文件对应于典型的PMOS管和NMOS管模型,ff代表该文件对应于快速的PMOS管和快速的NMOS管模型。如下图:

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smic18文件夹中存放的是版图文件,如下所示。所有门级网表对应的单元都在这里面,CEL是标准单元,FRAM是金属层次,PWR是电源。在自动布局布线软件中直接载入这些文件即可。

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tf文件夹中主要存放的是工艺技术库,也就是工艺规则库文件,分别对应4、5、6层金属所采用的工艺规则。
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lef

lef文件夹中存放的是Cadence公司encounter、innovus工具所使用的物理版图库,同样也是分别提供4、5、6层金属工艺文件。(之前听说的数字后端中的LEF/DEF中的LEF和这个是一样的吗?)

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primetime

这里面的文件如下:
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估计是早期PT和DC工具的database没有统一,所以就出现了这个东西?

synopsys

该文件夹下的内容如下:

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symbols是符号库,主要用于DC综合时,查看综合的电路结果图时需要用到。Synopsys该库非常重要,说它贯穿了整个自DC以后的所有后端流程都不为过,让我们来详细的说一说,它究竟重要在哪儿。首先,DC综合需要用到该库,其次,PT静态时序分析需要用到该库,再次FM形式验证也需要用到它,最后ICC/Encounter自动布局布线还需要用到它。由此可见该库的重要性。Synopsys库包括了标准单元的时序信息,功耗信息(泄露功耗,开关功耗,短路功耗),线负载模型等等,此外还分别提供ff、ss、tt,0(温)度(0c)、25度(25c)、125度(125c)下的标准单元的各类模型参数,是整个数字设计的核心。.db文件可以通过.lib文件转换得到,它们就是Synopsys库。.pdb文件可以通过.plib转换得到,关于.pdb和.plib,以前synopsys提出了物理综合的概念,对应工具为physical complier,对应的文件为.pdb和.plib文件,后来synopsys将astro和physical complier合并成了ICC,所以,pdb/plib文件就过时了。现在已经不会用到它了,较老的书籍仍然会提到物理综合的概念。

TD系列文件夹

该系列文件夹应该是用于模拟电路的,针对不同的仿真工具,设置了不同的文件夹,没有文件夹里面都有readme,这里面会有每个文件的作用进行说明。

这里以TD-L018-SP-2001v13P为例,展开看一下,该文件夹中的内容如下:

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这里的三个readme文件时针对三种不同的仿真工具,我们打开第一个readme文件,如下所示:

首先是版本更新更新内容:

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然后是每个文件的用途:

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文件的使用方法:

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一些约束条件要求:

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工艺角的一些信息:

在这里插入图片描述

### 回答1: 要在Cadence IC617中添加工艺,可以按照以下步骤操作: 1. 打开Cadence IC617软件,进入Design Environment界面。 2. 在Design Environment界面中,选择File菜单,然后选择Library Manager选项。 3. 在Library Manager界面中,选择File菜单,然后选择New Library选项。 4. 在New Library界面中,输入工艺的名称和路径,然后点击OK按钮。 5. 在Library Manager界面中,选择File菜单,然后选择New Cellview选项。 6. 在New Cellview界面中,选择工艺名称和工艺版本,然后输入单元名称和类型,最后点击OK按钮。 7. 在Library Manager界面中,选择File菜单,然后选择Open选项。 8. 在Open Library界面中,选择工艺名称和版本,然后点击OK按钮。 9. 现在可以在IC Design界面中使用添加的工艺了。 ### 回答2: cadence ic617是一款专业的集成电路设计软件,而添加工艺是使用它的必要步骤之一。那么,如何在cadence ic617中添加工艺呢? 首先,我们需要在工艺提供商处下载所需要的工艺,并记住下载路径。接着,我们需要打开cadence ic617软件,点击菜单栏中的“Setup”选项,选择“Technology Library Manager”。 在弹出的对话框中,我们需要点击“Technology”面板,并点击“Add”。然后会弹出一个浏览窗口,我们需要在其中选择对应的工艺文件,并点击“Open”按钮。 随后,我们需要在“Units”面板中,根据工艺的要求进行设置,如长度单位、时间单位等。接着,在“File Formats”面板中,我们需要确定工艺文件的格式并进行选择。 最后,在“Foundry Process Design Kit (PDK)”面板中,我们需要添加PDK文件路径,并将所需选项勾选。然后,我们点击“OK”按钮,等待加载工艺即可。 除此之外,我们还可以通过“Technology Library Manager”面板中的“Edit”按钮,对添加的工艺进行各项设置,如单元格、栅极、连线等。完成设置后,我们就可以在cadence ic617中充分利用工艺的功能,进行更加精准和高效的集成电路设计。 ### 回答3: Cadence IC617是一个集成电路设计的软件平台。它可以支持多种工艺的使用,在使用Cadence IC617设计集成电路时,需要先添加对应的工艺文件。 添加工艺的步骤: 1.打开Cadence IC617软件,从左上角的File菜单中选择“New->Library”选项来创建新的。 2.在弹出的对话框中输入一个名称,并确定将这个保存在哪个目录下。如果需要在此中添加一个工艺文件,则需要勾选“Add a physical view to the library”。 3.在“磁盘视图(Physical View)”面板中点击鼠标右键,选择“Add->Library Cellview->From Disk”选项。 4.在弹出的对话框中选择工艺文件,然后点击“OK”。 5.在“磁盘视图(Physical View)”面板中出现了刚才添加的工艺文件,“技术视图(Technology View)”面板中也对应生成了芯片元件(也称为device)。 6.为了在电路设计中使用工艺中的这些元件,需要将它们添加到原理图中。从左下角的“Library Browser”中选择要使用的元件,然后把它们放到电路原理图中。 7.最后,在Menu栏选择“Verify->Design Rules Checking”选项,查看是否有错误和警告,并修复它们。 以上步骤就是在Cadence IC617中添加工艺的基本流程,用户可以随时添加和修改工艺文件以满足特定的设计需求。
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