解读3D NAND是如何制作的?

3D NAND作为平面NAND的替代技术,因其物理极限已到,逐渐成为存储市场的新宠。文章介绍了3D NAND的结构与制造难点,包括垂直堆叠的挑战和string stacking技术的研发,以及未来可能达到的层数极限。随着技术的发展,3D NAND预计将在未来几年内成为主流存储解决方案。
摘要由CSDN通过智能技术生成

2013年,三星发售全球首款3D NAND设备,在IC(集成电路)业界达到了一个里程碑。现在,经过一些延迟与不确定性后,英特尔,美光,海力士,闪迪/东芝二人组对3D NAND最终加大产能或进行取样。

解读3D NAND是如何制作的?

相对现有平面或2D NAND,3D NAND无疑是翘首以待的“继承者”,它适用于内存卡,SSD,USB闪存驱动器等产品。

虽然我们依然对现有平面NAND有极大的需求量,但该项技术的微细化基本已经达到物理极限。今天,NAND闪存供应商正在通过Mid-1x纳米技术发售平面部件,这表示该技术的缩放之路已经走向终结。

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