文章目录
A 晶体三极管(BJT)
A.a 晶体管的结构和符号
-
中大功率管为什么有孔?
增大表面积,利于散热;还便于安装散热装置。 -
晶体管有三个极、三个区、两个PN结。
箭头:发射结正偏时实际流过发射结的电流方向
ps:正偏
即两极间加的电压与PN结的导通方向一致,如NPN管,B、E结,B极电位高于E极电位,就叫正偏,相反则叫反偏!
A.b 晶体管的放大原理
表面上看两个PN结背靠背,不具备放大电流能力。
三极管若实现放大,必须从三极管外部结构所加电源的特性和内部结构
来保证。
-
三极管放大的内部结构要求:
1 发射区高掺杂。
2 基区做得很薄。通常只有几微米到几十微米,而且掺杂较少。
3 集电结面积大。 -
三极管放大的外部条件:
发射结正偏 | 集电结反偏 | |
---|---|---|
NPN | U B > U E U_B>U_E UB>UE | U B < U C U_B<U_C UB<UC |
PNP | U B < U E U_B<U_E UB<UE | U B > U C U_B>U_C UB>UC |
上图左边为输入端口,右边为输出端口。发射极作为输入输出的公共端,所以称为共射放大电路。
V
B
B
V_{BB}
VBB:为了使得发射结正偏,能够导通
V
C
C
V_{CC}
VCC:要比
V
B
B
V_{BB}
VBB大,是为了使得
u
C
B
>
0
u_{CB}\gt 0
uCB>0,使得集电结反偏。
内部图:
外电场:白色大箭头。
扩散运动形成发射极电流
I
E
I_E
IE
复合运动形成基极电流
I
B
I_B
IB
漂移运动(即使基区自由电子数比空穴多,少子依然是自由电子)形成集电极电流
I
C
I_C
IC
定义1:共射极直流电流放大系数
β
‾
\overline{\beta}
β
β
‾
=
I
C
N
I
B
′
=
I
C
−
I
C
B
O
I
B
+
I
C
B
O
→
I
C
=
β
‾
I
B
+
(
1
+
β
‾
)
I
C
B
O
=
β
‾
I
B
+
I
C
E
O
\overline{\beta}=\frac{I_{CN}}{I'_B}=\frac{I_{C}-I_{CBO}}{I_B+I_{CBO}} \rightarrow I_C=\overline{\beta}I_B+(1+\overline{\beta})I_{CBO}=\overline{\beta}I_B+I_{CEO}
β=IB′ICN=IB+ICBOIC−ICBO→IC=βIB+(1+β)ICBO=βIB+ICEO
其中:
I
C
E
O
=
(
1
+
β
‾
)
I
C
B
O
I_{CEO}=(1+\overline{\beta})I_{CBO}
ICEO=(1+β)ICBO
I
C
E
O
I_{CEO}
ICEO称为穿透电流,是基极开路时流过集电极和发射极的电流。
I
C
B
O
I_{CBO}
ICBO称为集电结的反向饱和电流,是发射极开路时流过集电极和基极的电流.硅管的这两个电流均很小,在计算中可忽略不计。
一般情况下,
I
B
>
>
I
C
B
O
,
β
‾
>
>
1
I_B>>I_{CBO},\overline{\beta}>>1
IB>>ICBO,β>>1, 故有:
β ‾ ≈ I C I B ( β ‾ > 1 ) \overline{\beta}\approx\frac{I_C}{I_B}\qquad(\overline{\beta}>1) β≈IBIC(β>1)
定义共射极交流电流放大系数:
β
=
Δ
i
C
Δ
i
B
\beta=\frac{\Delta i_C}{\Delta i_B}
β=ΔiBΔiC
***
发射结回路为输入回路,集电结回路为输出回路。基极是两个回路的公共端,称这种接法为共基极放大电路。
定义2:
I
C
N
与
I
E
I_{CN}与I_{E}
ICN与IE之比称为共基直流电流放大系数
,即:
α
‾
=
I
C
N
I
E
\overline{\alpha}=\frac{I_{CN}}{I_E}
α=IEICN
I
C
=
I
C
N
+
I
C
B
O
=
α
‾
I
E
+
I
C
B
O
I_C=I_CN+I_{CBO}=\overline{\alpha}I_E+I_{CBO}
IC=ICN+ICBO=αIE+ICBO
当
I
C
B
O
<
<
I
C
I_{CBO}<<I_C
ICBO<<IC时,可将其忽略,则:
共基交流放大倍数:
α
‾
=
Δ
i
C
Δ
i
E
\overline{\alpha}=\frac{\Delta i_C}{\Delta i_E}
α=ΔiEΔiC
共基电路没有电流放大作用。
小结:
A.c 晶体管的共射输入特性和输出特性
A.c.a 输入特性
C、E之间的电压不变时,B、E之间所加的电压与 i B i_B iB之间的关系: i B = f ( u B E ) ∣ U C E = 常 数 i_B = f(u_{BE})|_{U_{CE}=常数} iB=f(uBE)∣UCE=常数
-
为什么像PN结的伏安特性?
U C E U_{CE} UCE等于0,即短路CE,相当于两个PN结并联。所以像PN结的伏安特性。 -
为什么 U C E U_{CE} UCE增大
曲线右移
?
U C E U_{CE} UCE增大,集电极C抢了基极B的电子,抑制 i B i_B iB,所以要增大 u B E u_{BE} uBE,来增大 i B i_B iB。 -
为什么 U C E U_{CE} UCE增大到一定值曲线右移就不明显了?
U C E U_{CE} UCE增大,即C收集电子的能力增强,增大到一定程度就饱和了。因此,对于小功率晶体管, U C E U_{CE} UCE大于1V的一条输入特性曲线可以取代 U C E U_{CE} UCE大于1V的所有输入特性曲线。
A.c.b 输出特性
i
B
i_B
iB不变时,C、E之间所加的电压与I_C之间的关系:
i
C
=
f
(
u
C
E
)
∣
i
b
=
常
数
i_C=f(u_{CE})|_{i_b=常数}
iC=f(uCE)∣ib=常数
对应于一个
I
B
I_B
IB就有一条
i
C
i_C
iC随
u
C
E
u_{CE}
uCE变化的曲线。
- 为什么
u
C
E
u_{CE}
uCE较小时
i
C
i_C
iC随
u
C
E
u_{CE}
uCE变化很大,而进入放大状态曲线几乎是横轴的平行线?
当 u C E u_{CE} uCE从零逐渐增大,集电结电场也随着增强,C收集基区电子(非平衡少子)的能力增强,表现就是 i C i_C iC增大,当C收集能力达到饱和时, i C i_C iC增大就不明显了。 -
β
\beta
β是常数吗?什么是理想晶体管?什么情况下
β
=
β
‾
\beta=\overline{\beta}
β=β?
不是常量。理想:没有穿透电流, β \beta β处处相等。理想情况下。
晶体管的三个工作区域:
饱和:但
U
C
E
=
U
B
E
U_{CE}=U_{BE}
UCE=UBE,称为临界饱和,
U
C
E
<
U
B
E
U_{CE}<U_{BE}
UCE<UBE,称为过饱和。
晶体管工作在放大状态时,输出回路的电流
i
C
i_C
iC几乎仅仅决定于输入回路的电流
i
B
i_B
iB,即可将输出回路等效为电流
i
B
i_B
iB控制的电流源
i
C
i_C
iC。
发射结 | 集电结 | 特点 | |
---|---|---|---|
截止 | 反偏 | 反偏 | |
放大 | 正偏 | 反偏 | 各条输出特性曲线比较平坦,近似为水平线且等间隔。集电极和基电极电流体现放大作用 ,即
Δ
i
C
=
β
Δ
i
B
\Delta i_C=\beta\Delta i_B
ΔiC=βΔiB |
饱和 | 正偏 | 正偏 |
i
C
i_C
iC不仅与
i
B
i_B
iB有关,而且随
u
C
E
u_{CE}
uCE增大而增大。在饱和区三极管失去放大作用 。
i
C
≠
β
i
B
i_C \not=\beta i_B
iC=βiB |
A.d 温度对晶体管特性的影响
温度升高,集电极电流增大。
A.e 主要参数
- 直流参数: β ‾ 、 α ‾ = I C I E 、 I C B O 、 I C E O \overline{\beta}、\overline{\alpha}=\frac{I_C}{I_E}、I_{CBO}、I_{CEO} β、α=IEIC、ICBO、ICEO
- 交流参数:
β
、
α
、
f
T
\beta、\alpha、f_T
β、α、fT(
特征频率
:使得 β = 1 \beta=1 β=1的信号频率,使得晶体管丧失放大功能的频率) - 极限参数: I C M ( 最 大 集 电 极 电 流 ) 、 P C M ( 最 大 集 电 极 耗 散 功 率 , P C M = i C u C E ) 、 U ( B R ) C E O ( c − e 间 击 穿 电 压 ) I_{CM}(最大集电极电流)、P_{CM}(最大集电极耗散功率,P_{CM}=i_C u_{CE})、U_{(BR)CEO}(c-e间击穿电压) ICM(最大集电极电流)、PCM(最大集电极耗散功率,PCM=iCuCE)、U(BR)CEO(c−e间击穿电压)
图片来源:清华大学公开课 《模拟电子技术基础》 华成英