RD200M脉冲电离室 产品技术报告 FTLAB 氡气传感器技术总结

产品技术报告：FTLAB 氡气传感器 RD200M

（技术细节与测试性能专项分析）

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1. 核心技术细节

1.1 脉冲电离室设计

• 结构创新：
  • 双探针电离腔：采用200cc容积电离室，内部配置双探针结构，通过正偏压设计（电离室电压未公开）增强电荷收集效率。
  • 差分放大电路：高阻抗（兆欧级）差分放大器配合低通滤波器（LPF），抑制伽马射线、X射线及高频噪声干扰，信噪比提升至市场领先水平。
• 信号处理流程：
  • α信号特征提取：通过阈值比较器（Vth=1.0V）筛选有效α衰变脉冲（脉冲宽度50~600ms，典型值300ms）。
  • 波形分析算法：MCU基于脉冲宽度、峰值（1.0~4.0V）及时间间隔，区分真实α信号与机械振动/电磁噪声。
    

1.2 抗干扰机制

• 振动补偿：
  • 内置三轴加速度传感器，检测机械振动（如设备移动或外部冲击），触发1秒信号屏蔽，避免误计数。
  • 振动阈值未公开，但测试显示可过滤>90%的机械干扰。
• 环境适应性：
  • 温湿度影响：在10_40°C、090% RH范围内，灵敏度波动<±3%；极端湿度（RH>90%）下误差仍<±10%。

1.3 校准与稳定性

• 出厂校准：每台传感器单独校准，校准设备溯源至国际标准（KTL认证）。
• 长期