mos管原理,参数及应用

本文详细解释了N沟道MOS管的工作原理,包括通过Vgs控制导通程度以及体二极管在不同状态下的作用。文章还介绍了体二极管在LDO中的应用,以及在设计MOS管电路时需考虑的关键参数如Vgs(th)、Rdson和Cgs。
摘要由CSDN通过智能技术生成

MOS是一种压控元件。我觉得用一句话概括就是:通过控制Vgs的大小,控制源极漏极的通断程度

原理:

以N沟道增强型mos管为例:

如图,源极和漏极与掺杂了电子的半导体相连,而掺杂了空穴的半导体作为衬底,形成了两个相反的PN结。而由于源极与衬底相连,又形成了一个体二极管(寄生二极管)

NMOS管的导通过程是这样的:

当在DS两级接入电压源,无论正接反接都不导通(因为有两个相反的二极管),当栅极增加正向电压Vgs>Vth时,栅极下方由于电场的作用(正电压吸引电子,排斥空穴)形成N沟道,使得DS连通。如下图所示

(这里我有一个想法不知道对不对,之所以是Vgs去和阈值电压比较,是因为s和衬底是相连的,会形成电场。如果G,S为高电平,则无法形成沟道,电流直接通过体二极管流过)

所以一般在电路图中这样表示NMOS:

如果不考虑体二极管,可以将NMOS等效为:(电压控制ds间电阻的大小)

这个等效模型就很简单了,可以这么理解:

这就可以很好的理解为啥mos可以做开关了。

实例:

现在再加上体二极管,这里通过一个应用来学习:

首先声明:充电时输入电压大于电池供电电压,图中所用为PMOS。

不充电时,电流通过体二极管拉高源极电压,此时栅极没有供电。Vgs<0,pmos导通,通过ds低阻通道给稳压芯片供电。同时,因为最上面的二极管,电流不会倒流至输入端。

充电时,VGS>0,pmos关闭,同时源极电压大于栅级,不能从体二极管供电。输入通过最上面的二极管直接供电。

个人觉得沟道形成以后,电流的方向是可以改变的,取决于源漏两级的电压。

通常情况下NMOS的电流方向是从D到S,PMOS是从S到D(与体二极管方向相反)。如果反接会失去开关功能。

从这里有一些微妙的感觉了。体二极管还是有作用的。

除此之外,体二极管还可以:

        区分源极和栅极。

        保护MOS管(出现瞬间反向电流时,直接通过体二极管导出,保护MOS管)

MOS管在LDO中的运用:

如图,LDO由四部分组成:

1.分压采样电路。Vo=Vref*(1+R1/R2)

2.基准电压。

3.误差放大器。当FB小于参考电压时,输出电源-。否则输出电源正。

4.晶体管调整电路。重点说这个

当FB增大,则误差放大器的输出,即栅极电压增大,|Vgs|变小,沟道变小,PMOS的压降增大,Vo处的电压减小、反之同理。

所以Vo始终为较为稳定的电压。

且不论如何导通,MOS都存在着一定的压降,所以LDO只能用作降压。

且|Vgs|越大,压降越小,甚至能完成3.3转3.2的任务。

参数:

在设计电路时,需要考虑MOS管的四个参数。

1.封装,这个就不赘述了。

2.Vgs(th)。选择时,太小易倍干扰误触发,但最大不超过高电平的电压值。

3.Rdson(完全打开时ds间的电阻)

4.Cgs(gs间的寄生电容),会影响MOS打开的速度。在高速pwm电路中十分重要。

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