MOS是一种压控元件。我觉得用一句话概括就是:通过控制Vgs的大小,控制源极漏极的通断程度
原理:
以N沟道增强型mos管为例:
如图,源极和漏极与掺杂了电子的半导体相连,而掺杂了空穴的半导体作为衬底,形成了两个相反的PN结。而由于源极与衬底相连,又形成了一个体二极管(寄生二极管)
NMOS管的导通过程是这样的:
当在DS两级接入电压源,无论正接反接都不导通(因为有两个相反的二极管),当栅极增加正向电压Vgs>Vth时,栅极下方由于电场的作用(正电压吸引电子,排斥空穴)形成N沟道,使得DS连通。如下图所示
(这里我有一个想法不知道对不对,之所以是Vgs去和阈值电压比较,是因为s和衬底是相连的,会形成电场。如果G,S为高电平,则无法形成沟道,电流直接通过体二极管流过)
所以一般在电路图中这样表示NMOS:
如果不考虑体二极管,可以将NMOS等效为:(电压控制ds间电阻的大小)
这个等效模型就很简单了,可以这么理解:
这就可以很好的理解为啥mos可以做开关了。
实例:
现在再加上体二极管,这里通过一个应用来学习:
首先声明:充电时输入电压大于电池供电电压,图中所用为PMOS。
不充电时,电流通过体二极管拉高源极电压,此时栅极没有供电。Vgs<0,pmos导通,通过ds低阻通道给稳压芯片供电。同时,因为最上面的二极管,电流不会倒流至输入端。
充电时,VGS>0,pmos关闭,同时源极电压大于栅级,不能从体二极管供电。输入通过最上面的二极管直接供电。
个人觉得沟道形成以后,电流的方向是可以改变的,取决于源漏两级的电压。
通常情况下NMOS的电流方向是从D到S,PMOS是从S到D(与体二极管方向相反)。如果反接会失去开关功能。
从这里有一些微妙的感觉了。体二极管还是有作用的。
除此之外,体二极管还可以:
区分源极和栅极。
保护MOS管(出现瞬间反向电流时,直接通过体二极管导出,保护MOS管)
MOS管在LDO中的运用:
如图,LDO由四部分组成:
1.分压采样电路。Vo=Vref*(1+R1/R2)
2.基准电压。
3.误差放大器。当FB小于参考电压时,输出电源-。否则输出电源正。
4.晶体管调整电路。重点说这个
当FB增大,则误差放大器的输出,即栅极电压增大,|Vgs|变小,沟道变小,PMOS的压降增大,Vo处的电压减小、反之同理。
所以Vo始终为较为稳定的电压。
且不论如何导通,MOS都存在着一定的压降,所以LDO只能用作降压。
且|Vgs|越大,压降越小,甚至能完成3.3转3.2的任务。
参数:
在设计电路时,需要考虑MOS管的四个参数。
1.封装,这个就不赘述了。
2.Vgs(th)。选择时,太小易倍干扰误触发,但最大不超过高电平的电压值。
3.Rdson(完全打开时ds间的电阻)
4.Cgs(gs间的寄生电容),会影响MOS打开的速度。在高速pwm电路中十分重要。