重复雪崩的特点是高频率重复发生,这通常与应用电路的开关频率 () 相同。
发生重复雪崩时,每个事件的能量远低于单脉冲雪崩。
现有的重复雪崩模式可分为两种主要类型,如图27 所示。
1. 在某些情况下,我们可以谈论“稳态”重复雪崩,因为雪崩事件发生在整个产品生命周期的每个开关周期中。
2. 在其他情况下,我们面临某种“瞬态或故障条件”重复雪崩,因为雪崩只发生在特定的瞬态(例如启动) 或 故障(例如短路) 条件下,在此期间,发生 10~50 次可观察到的连续雪崩事件,之后雪崩将停止,直到下一次启动或短路导致多个连续电压脉冲上再次发生雪崩。
在大多数重复雪崩情况下,由于每次雪崩事件的能量较低,与单脉冲雪崩时的最坏情况相比,硅材料的温度几乎没有升高。因此,观察到的 Vds 尖峰仅略微超过 MOSFET 的 VBR(DSS)(min,25) 额定值,而在高能量单脉冲雪崩期间记录的幅度为 1.2~1.3 x VBR(DSS)(min,25) 。
EAS 与EAR 额定值之间的差异与此类事件期间允许的 Tj,max 有关。事实上,单脉冲雪崩期间允许结温超过 Tj,max,但对于重复雪崩却不是这样。如果重复雪崩期间超过 Tj,max,此类事件的累积效应可能会降低器件在其生命周期内的可靠性,从而导致过早失效,这是不能接受的。
器件的 Tj,max 通常受封装本身限制,而不受芯片技术限制。因此,在某些情况下,当采用不同封装形式时,具有相同管芯的 MOSFET,其额定温度可能不同。
失效机制
单脉冲雪崩的两种损坏模式是由高电流 (闩锁效应) 或 高能量 (热损坏) 引起的。这些损坏模式动静大、损坏速度快。
在重复雪崩的情况下,损坏过程是渐进的,通过重复的微损伤非常缓慢地影响器件。即使是低能量的雪崩事件也会产生一些热载流子,这些载流子电荷沿着MOSFET 的沟槽氧化物注入。这种雪崩事件不断重复,导致电荷积累,慢慢损害器件的可靠性。这可能导致一段时间后发生现场失效。
显而易见,“瞬态或故障条件”重复雪崩对 MOSFET 的影响比“稳态”重复雪崩更温和,因为前者可能为累积电荷在两次雪崩事件之间重新结合提供时间。
确定雪崩发生位置
与单脉冲雪崩相反,重复雪崩情况下经历的较低能量导致更小范围的雪崩发生。
随着电场增加,所产生自由载流子的数量迅速增加(因此电流也随之增加),雪崩极有可能发生在较高电场的区域,当器件所施加的漏源电压 时,这个区域的电场强度最可能超过临界电场(Ec)。如图28所示。
最后一种说法实际上对使用场板的电荷补偿器件提出了挑战,例如沟槽 MOSFET。实际上,插入场板使电场在整个沟槽上更为均匀,可以降低 Rdson 。如图29 所示,这种均匀性理想地体现为电场沿沟槽的矩形分布形状,这与传统的方法(基本沟槽或平面结构[7])的三角形状相反。参考上一段,对于分布非常均匀的电场,其雪崩发生位置可能非常随机。不可避免,必须在减小 Rdson 与抗重复雪崩稳健性之间找到折衷方案。
重复雪崩下 OptiMOS™ 系列的额定值
大多数英飞凌 OptiMOS™ 系列的产品在设计阶段都考虑了重复雪崩。观察到一些参数随时间漂移,漂移量和实际参数取决于技术。图30 所示为特定技术的参数漂移示例。可以看到,在大多数情况下,当在该器件定义的条件下经历重复雪崩时,零栅极电压漏极电流 (Idss) 和 跨导 (gfs) 会发生漂移,更接近数据表极限。除参数在多个生产批次上的自然分布之外,还存在参数超出规范要求的明显风险。
考虑到这一点,为显著降低重复雪崩对器件参数的影响,Infineon需要在绝大多数应用中占主导地位的其他品质因数上做出重大妥协。这对于与 MOSFET 的正常使用不相符的事件而言,代价太高了,设计人员应尽力避免。因此,Infineon不会在 OptiMOS™ “工业和标准等级”datasheet 中加入重复雪崩的额定值。
如何避免雪崩事件
用于减少关断瞬态的方法包括:
1) 通过调整栅极驱动网络来减缓 MOSFET 的关断速度
如图6,栅极驱动电路之一可用于控制导通和关断速度。调整 Rg_off 可在不影响导通速度的情况下降低关断瞬态电压。然而,在硬开关半桥电路中,Rg_off 值不能太高,因为这可能会导致在低侧栅极处出现感应导通尖峰,此现象由 Cgd .di/dt 效应引起。如果值足够大,此尖峰可能会超过MOSFET 的 Vth,并产生危险的击穿电流。因此,仔细考虑栅极驱动电阻值对于在最小化关断瞬态振幅、避免感应导通(如适用)和控制 EMI 之间实现最佳平衡至关重要。
2) 在漏极和源极之间添加 RC 缓冲器
如图7,在漏极和源极之间添加一个串联 RC 缓冲器,以吸收一些关断瞬态,从而降低其峰值电压; 然而,这会产生额外的开通损耗。