设计和分析GRIN扩散器

该案例展示了如何利用VirtualLabFusion软件设计和分析一个折射率调制的扩散器图层,目标是生成TopHat图案。设计过程包括创建相位函数和计算相应的折射率调制。GRIN层的厚度和最大折射率调制值被详细说明,并且模拟结果显示了角强度分布。优化的GRIN元件能实现二维强度分布的任意设计,且支持在调制介质中的光传播模拟。
摘要由CSDN通过智能技术生成

案例563(1.0)

1.建模任务
 

 这个案例将演示设计与分析一个折射率调制的扩散器图层以生成Top Hat图案。

 设计包括两个步骤:

- 设计相位函数来生成一个角谱Top Hat分布。

- 基于相位调制来计算对应的折射率调制。

 如果想要更详细的解释设计和分析步骤,请参见教程Tut565。

照明光束参数

 波长:632.8nm

 激光光束直径(1/e2):700um

理想输出场参数

 直径:1°

 分辨率:≤0.03°

 效率:>70%

 杂散光:<20%

2. 设计相位函数

 相位的设计请参考会话编辑器Sc563_GRIN_Diffuser_1.seditor和优化文档Sc563_GRIN_Diffuser_2.dp

 设计没有离散相位级的phase-only传输。

3.计算折射率调制

 最大折射率调制

△n=+0.05

 如果是GRIN层,那么厚度:12.656um

 折射率调制假设与相位调制成正比(薄元近似)。

 为得到细节请参见教程Tut565。

 优化系统文件Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd。

4.模拟结果

 

角强度分布

(参见Sc563_GRIN_Diffuser_3.lpd)

5.结论

 VirtualLab Fusion支持设计GRIN衍射光学元件和全息图。

 优化的GRIN元件可以生成任意二维强度分布。

 可以模拟通过x/y平面上任意调制的介质中的光传播。

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